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德國(guó)Raith電子束光刻機(jī)EBPG5150
德國(guó)Raith電子束光刻機(jī)EBPG5150

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德國(guó)

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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

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德國(guó)Raith EBPG5150 電子束光刻機(jī)

詳細(xì)介紹

EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺(tái),,采用跟EBPG5200一樣的通用光刻平臺(tái)設(shè)計(jì),,對(duì)電子束直寫應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,,包括多片散片以及完整的硅片,。

高束流密度,熱場(chǎng)發(fā)射電子槍可以在20,、50和100kV之間切換155mm的平臺(tái)

*小曝光特征尺寸小于8nm

高速度曝光,,可采用50或100MHz的圖形發(fā)生器

在所有KVs加速電壓下,可連續(xù)改變的寫場(chǎng)大小,,**可以到1mm

GUI人機(jī)交互界面友好,,簡(jiǎn)潔易用,適用于多用戶環(huán)境

多項(xiàng)靈活可選擇的配置,,可以適用于不同應(yīng)用的需求

可選的系統(tǒng)增強(qiáng)升級(jí)

EBPG5150可以選擇不同的升級(jí)選項(xiàng),,以滿足用戶不同的技術(shù)和預(yù)算需求。讓全世界的高校等研究類用戶也可以使用這款非常先進(jìn),、高自動(dòng)化的電子束光刻系統(tǒng),。

EBPG5150 應(yīng)用

· 電子束曝光用于制作GaAs T型器件

· 微盤諧振器

· 開口環(huán)諧振器

EBPG5150 產(chǎn)品詳情

主要應(yīng)用:

· 100KV高加速電壓可用于曝光高深寬比納米結(jié)構(gòu)

· 高速電子束直寫

· 批量生產(chǎn),如化合物半導(dǎo)體器件

· 防偽標(biāo)識(shí)

電子光學(xué)柱技術(shù):

· EBPG

· 電子束

· 100 kV

樣品臺(tái):

· 覆蓋完整6英寸硅片大小

· 標(biāo)配2工位自動(dòng)化上料

(10工位可選)

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
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德國(guó)Raith電子束光刻機(jī)EBPG5150信息由深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司為您提供,,如您想了解更多關(guān)于德國(guó)Raith電子束光刻機(jī)EBPG5150報(bào)價(jià)、型號(hào),、參數(shù)等信息,,歡迎來電或留言咨詢。
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