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等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD品牌
助研儀器產(chǎn)地
安徽樣本
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名稱:等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
型號:ZYE-1200-PE
簡介:為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進行,,利用了等離子體的活性來促進反應(yīng),,因而這種CVD稱為等離子體增強化學(xué)氣相沉積法(PECVD)。它是由500W射頻電源,、1200℃單溫區(qū)管式爐,、三通道質(zhì)量流量混氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成。此款PECVD系統(tǒng)用于生長納米線,、石墨烯或SiC薄膜等
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