μMLA桌面無(wú)掩模光刻機(jī)

桌面型光刻機(jī)μMLA技術(shù)參數(shù)

系統(tǒng)尺寸(光刻單元)

無(wú)掩模光刻機(jī)于2015年**推出,。從那時(shí)起，先進(jìn)的無(wú)掩膜技術(shù)已經(jīng)確立,。μMLA提供了新一代的桌面激光光刻工具: 配置設(shè)置精確到您的需要與光柵掃描和矢量掃描模式(或兩者)和可變分辨率的記錄磁頭,。

在許多應(yīng)用中，傳統(tǒng)的光掩膜已經(jīng)成為過(guò)去,，因?yàn)槟愕脑O(shè)計(jì)文件是通過(guò)二維空間光直接暴露在電阻涂層晶圓上的調(diào)制器(SLM),。μMLA是MLA100的直接繼承者，是“小”MLA150,，是我們先進(jìn)的無(wú)掩模對(duì)準(zhǔn)器的兄弟,，它是許多多用戶設(shè)備、納米制造實(shí)驗(yàn)室和國(guó)家研究所中值得信賴(lài),、不可或缺的主力,。

在我們?nèi)碌娜腴T(mén)級(jí)系統(tǒng)μMLA的開(kāi)發(fā)過(guò)程中,，我們引入了諸如可變解決方案等新特性,，并創(chuàng)建了一個(gè)靈活且高度可定制的桌面系統(tǒng)。當(dāng)然,，小樣本處理很簡(jiǎn)單,。μMLA功能保留以前桌面系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)提供更多的選擇和更高的性能,。

應(yīng)用包括研究和發(fā)展的領(lǐng)域,，如MEMS，微流體,，微光學(xué)和所有其他領(lǐng)域,，負(fù)擔(dān)得起，緊湊,，和強(qiáng)大的模式基因rator微結(jié)構(gòu)是必需的,。

APPLICATIONS 應(yīng)用程序

微光學(xué):二元衍射光學(xué)元件,。設(shè)計(jì)由1個(gè)μm2正方形組成。

μMLA提供了一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)的灰度模式,，這可以制造低創(chuàng)造的微鏡頭,。防蝕膠：15 μm厚AZ4562。節(jié)距30 μm,，曲率半徑16 μm,。

CUSTOMIZE YOUR μMLA 定制您的μMLA

兩種曝光模式

μMLA可以讓你選擇光柵掃描曝光模式和矢量模式，或者甚至在同一個(gè)系統(tǒng)上運(yùn)行曝光模式! 光柵掃描曝光模式快速,，并提供良好的圖像質(zhì)量和保真度,，而寫(xiě)入時(shí)間獨(dú)立于結(jié)構(gòu)尺寸或圖案密度。矢量掃描模式可以幫助暴露由曲線組成的設(shè)計(jì),，當(dāng)需要平滑的輪廓,。雖然矢量模式產(chǎn)生的圖像質(zhì)量與光柵掃描曝光模式相似，但它不能達(dá)到同樣的寫(xiě)入速度,，特別是對(duì)于高填充系數(shù)的模式,。

A Choice of Wavelengths 波長(zhǎng)的選擇

因此，你可以在一個(gè)系統(tǒng)上使用多達(dá)三個(gè)不同波長(zhǎng)(LED和/或激光二極管),。

Variable Resolution 可變分辨率

我們新開(kāi)發(fā)的可變分辨率函數(shù)允許您為一個(gè)部分的編寫(xiě)模式選擇三種不同的分辨率,。只需在軟件菜單中選擇解決方案，并為您的應(yīng)用程序優(yōu)化參數(shù),。

The Surface at One Glance

可選的概述相機(jī)提供了一種簡(jiǎn)單的方法來(lái)定位對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記或其他特征感興趣的基板上,。

Small Sample Handling 小樣本處理

小樣品處理是直接與μMLA: 光學(xué)自動(dòng)對(duì)焦選項(xiàng)允許準(zhǔn)確曝光，直到樣品的邊緣,。