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電子束光刻機(jī)

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

電子束光刻機(jī)

品牌

安徽澤攸

產(chǎn)地

安徽

樣本

暫無
安徽澤攸科技有限公司

白金會(huì)員

|

第1年

|

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    澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)(EBL)采用場(chǎng)發(fā)射電子槍,,配合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)對(duì)半導(dǎo)體晶圓的高速,、高分辨光刻,。該系統(tǒng)標(biāo)配高精度激光干涉樣品臺(tái),允許用戶實(shí)現(xiàn)大行程高精度拼接和套刻需求,,在新材料,、前沿物理研究、半導(dǎo)體,、微電子,、光子、量子研究領(lǐng)域發(fā)揮重要作用,。

    產(chǎn)品特色

    ▲ 激光干涉樣品臺(tái):先進(jìn)的激光干涉樣品臺(tái),,滿足大行程高精度拼接和套刻需求

    ▲ 場(chǎng)發(fā)射電子槍:高分辨場(chǎng)發(fā)射電子槍是光刻質(zhì)量的重要保證

    ▲ 圖形發(fā)生器:在保證超高速掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)超高分辨率圖案繪制

    樣品臺(tái)指標(biāo)

    ▲ 標(biāo)配:激光干涉樣品臺(tái)

    ▲ 樣品臺(tái)行程:≥105 mm

    ▲ 拼接精度:優(yōu)于50nm(平均值+ 1σ)

    ▲ 套刻精度:優(yōu)于50nm(平均值+ 1σ)

    電子槍及成像指標(biāo)

    ▲ 肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍:加速電壓20V~30kV;旁側(cè)二次電子探測(cè)器和鏡筒內(nèi)電子探測(cè)器

    ▲ 圖像分辨率:≤1 nm @ 15 kV;≤1.5 nm @ 1 kV

    ▲ 束流密度:> 7000A/cm2,;電子束流≥100nA

    ▲ *小束斑尺寸:≤2nm

    光刻指標(biāo)

    ▲ 電子束閘:上升沿<100ns

    ▲ 寫視場(chǎng):≥500×500 um

    ▲ *小單次曝光線寬:<15nm(同時(shí)取決于工藝條件)

    ▲ 掃描速度:≥20MHz

    圖形發(fā)生器參數(shù)

    ▲ 控制核心:高性能FPGA

    ▲ 停留時(shí)間*小增量:10ns

    ▲ **掃描速度:50MHz

    ▲ 圖形文件格式:GDSII,、DXF、BMP等

    ▲ D/A分辨率:20位

    ▲ 法拉第杯束流測(cè)量:包含

    ▲ 支持的寫場(chǎng)大?。?0um~500um

    ▲ 臨近效應(yīng)校正:可選項(xiàng)

    ▲ 束閘支持:5V TTL

    ▲ 激光干涉位移臺(tái):可選項(xiàng)

    ▲ 掃描方式:順序掃描(Z型),、循環(huán)掃描(S型)、螺旋型掃描等多種矢量掃描模式

    ▲ 曝光模式:支持場(chǎng)校準(zhǔn),、場(chǎng)拼接,,支持套刻,支持多圖層自動(dòng)曝光

    ▲ 外接通道支持:支持電子束掃描,、工件臺(tái)移動(dòng),、束閘通斷、二次電子檢測(cè)

    選配附件

    ▲ 配套UPS不間斷電源

    ▲ 配套主動(dòng)減震臺(tái),,*低自然頻率2Hz


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10分

易用性

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