緊湊型設計,，占地面積僅為 46”x44”,，不銹鋼立柜。
工藝過程通過觸摸屏 PC 和 LabView 軟件,，可實現全自動的 PC控制,，具有高度的可重復性，且具有友好的用戶界面,。
系統(tǒng)具有完整的安全聯(lián)鎖,，提供四級密碼授權訪問保護，含：
。操作者權限：運行程序
,。 工藝師權限：添加/編輯和刪除程序
。 工程師權限：可獨立控制子系統(tǒng),，并開發(fā)程序
,。服務權限：NM 工程師故障診斷和排除
真空系統(tǒng)包含渦輪分子泵和機械泵，極限真空可達到 5 x10-7Torr,。渦輪分子泵與腔體之間的直連設計,，系統(tǒng)可獲得**的真空傳導率，基本可以達到 15 分鐘可達到工藝真空,，8 小時達到腔體極限真空,。腔體壓力調節(jié)通過 PC 自動控制渦輪速度而全自動調節(jié)，快速穩(wěn)定,。
在**個腔體中通過離子束可達到原子級的清洗,，離子源安裝在腔體頂部，離子源配套 2KV,，300mA 的電源,。樣品臺配套 4”或 6”基片夾具、水冷,，并可對著離子束流實現+900C 到-900C 旋轉,。系統(tǒng)配套氣動遮板，使得工藝運行前穩(wěn)定離子束流,。
根據應用需要可以升級離子源,，以支持更大尺寸晶圓片的處理。
第二個腔體可以根據應用需要配套 ALD,、PECVD,、磁控、電子束蒸鍍,、熱蒸鍍等鍍膜,。
膜厚監(jiān)控儀校準后可實現原位膜厚測量，可以工藝時間或工藝膜厚為工藝終點條件,，系統(tǒng)支持設定目標膜厚,，當達到設定的目標膜厚時全自動結束工藝。水冷保護晶振夾具,，膜厚和沉積速率以及晶振壽命可顯示,，可存儲高達 100 個膜厚數據。
系統(tǒng)的兩個腔體均配套單片的 Auto L/UL,，可實現自動進樣,、對準、出樣，在不間斷工藝真空情況下連續(xù)處理樣片,。Load Lock腔體帶獨立真空系統(tǒng)和真空計,，通過 PC 全自動監(jiān)控。兩個腔體之間可以互相傳送樣片,。整個過程計算機全自動控制,。
應用：
。光學鍍膜
,。 Sputterint 濺射
,。IBAD 離子束輔助沉積
。離子束刻蝕清洗
,。 離子束輔助反應性刻蝕
,。 紅外鍍膜
。表面處理
設備特點：
,。RF 射頻偏壓樣品臺
,。 膜厚原位監(jiān)測
。 極限真空 5 x 10-7Torr
,。 **的真空傳導率設計,，具有快速真空能力
。 PC 全自動控制,，超高的精度及可重復性
,。 高質量薄層
。原子級的超凈表面
,。 原子級清洗和拋光
,。 LabView 軟件的 PC 控制系統(tǒng)
。 自動上/下載片
,。 兩個腔體可以分別獨立使用并實現自動上下載片
,。 兩腔體之間自動傳送，雙向傳送支持
,。 菜單驅動,，密碼保護
。 安全互鎖
,。 占地面積 46”D x 44”W
系統(tǒng)可選：
,。 向下/向上濺射
。共濺射
,。DC,， RF 以及脈沖電源
。離子束輔助沉積
,。 電子束源
,。熱蒸鍍
,。等離子源
。 ALD 沉積或 PECVD 沉積
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美Nano-master離子束刻蝕濺射鍍膜一體機NOC-4000的工作原理介紹,？
移動端
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