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日本JEOL熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡JSM-7610FPlus
· 廣受好評的JSM-7610F的光學系統(tǒng)經(jīng)過改進,,實現(xiàn)了分辨率15kV 0.8nm、1kV 1.0nm的進一步提升,,以嶄新的JSM-7610FPlus形象亮相,。采用半浸沒式物鏡和High Power Optics照明系統(tǒng),,提供穩(wěn)定的高空間分辨率觀察和分析,。此外還具備利用GENTLEBEAMTM模式進行低加速電壓觀察,、通過r-filter分選信號等滿足各種需求的高擴展性。
產(chǎn)品規(guī)格:
產(chǎn)品特點:
廣受好評的JSM-7610F的光學系統(tǒng)經(jīng)過改進,,實現(xiàn)了分辨率(15kV 0.8nm,、1kV 1.0nm)的進一步提升,以嶄新的JSM-7610FPlus形象亮相,。采用半浸沒式物鏡和High Power Optics照明系統(tǒng),,能提供穩(wěn)定的高空間分辨率觀察和分析。
此外還具備利用GENTLEBEAMTM模式進行低加速電壓觀察,、通過r-filter分選信號等滿足各種需求的高擴展性,。主要特點如下:
◇ 半浸沒式物鏡
半浸沒式物鏡在樣品周圍形成強磁場,因而可以獲得超高分辨率,。
◇ High Power Optics
High Power Optics 是獨特的電子光學系統(tǒng),,既實現(xiàn)了高倍率觀察又能進行多種分析。
浸沒式肖特基場發(fā)射電子槍,,可以獲得10 倍于傳統(tǒng)肖特基場發(fā)射電子槍(FEG)的探針電流,,**光闌角控制鏡(ALC)在探針電流增大時也能保持小束斑,兩者組合起來能提供200 nA 以上的探針電流,。強大的High Power Optics 系統(tǒng),,從高倍率圖像觀察到EDS分析和EBSD 解析可以一直使用高分辨率的*小物鏡光闌而不需要改換。
浸沒式肖特基場發(fā)射電子槍銃
浸沒式肖特基場發(fā)射電子槍通過和低像差聚光鏡組合,,可以有效地收集從電子槍內(nèi)發(fā)射的電子,。
**光闌角控制鏡(ACL)
**光闌角控制鏡(ACL)配置在物鏡的上方,在整個探針電流范圍內(nèi)自動優(yōu)化物鏡光闌的角度,。因此,,即使照射樣品的探針電流很大,與傳統(tǒng)方式相比,,也能獲得很小的電子束斑,。
即使探針電流很大,束斑直徑也很小
長時間分析時穩(wěn)定度也很高
浸沒式消特基場發(fā)射電子槍能獲得穩(wěn)定的電子探針
◇ 柔和電子束(GB:GENTLEBEAMTM)模式
柔和的電子束模式(GB模式)通過給樣品添加負電壓,,從而使電子束在即將撞擊樣品之前降低著陸電壓,,因此可以在低加速電壓下(*低100V)進行高分辨觀察。
由于電子束在樣品中散射區(qū)域減小,,就會容易地觀察樣品淺表面的精細結(jié)構,,能減少對熱敏樣品的的損傷,可以直接觀察非導電性樣品,。
JSM-7610Plus 在GB模式下(1KV)的分辨率為1.0nm
GB 模式的效果
GB 模式在低電壓下提高分辨率
左圖一般模式,,右圖GB模式
增強了的低加速電壓下的分辨率
◇ r-過濾器
新一代 r-過濾器 是由二次電子控制電極,,背散射電子控制電極,過濾器電極組合而成的獨特的能量過濾器,。當電子束照射樣品時,,從樣品表面會釋放出各種能量的電子,新一代r-過濾器 通過組合多個靜電場使電子束保持在透射系統(tǒng)的中央,,同時還對樣品中產(chǎn)生的二次樣品和背散射電子進行選樣和檢測,。
新新一代 r-過濾器*多能獲得3倍于舊機型的信號量。
新一代 r-過濾器 檢測信號的方法
◇ LABE檢測器(選配件)
LABE(Low Angle BE)檢測器能檢測低角度背散射電子,。在低加速電壓下對樣品表面精細的形貌信息,,在高加速電壓下對樣品的組分信息都能進行高分辨觀察。
利用LABE 檢測器獲取低角度背散射電子像
◇ 擴展性
能譜儀(EDS)
High Power Optics 能充分發(fā)揮EDS(SDD)檢測器的特長,,即使探針電流很大,,也不容易飽和。使用低加速電壓,,大探針電液能在短時間內(nèi)獲取清晰的面分布圖,。下面的圖像顯示了在2分針內(nèi)可以對鎳基板表面上極薄的石墨烯薄膜進行分析。
使用基本型SDD nm2 檢測器也能在短短的30秒鐘內(nèi)測試100nm厚的多層膜截面,。
波譜儀(WDS)
由于High Power Optics 在大探針電流時也能提供很小的電子束斑,,因此能充分發(fā)揮WDS的特長,使用WDS可以確認用EDS判斷的樣品的濃度差等,。
陰極熒光系統(tǒng)(CL)
陰極熒光是電子束照射樣品時產(chǎn)生的發(fā)光現(xiàn)象,,從樣品中發(fā)出的光經(jīng)拋物面反射鏡(聚光鏡)聚焦后被檢測出來。
下面的數(shù)據(jù)是金剛石(1KW)的二次電子圖像和用衍射光柵獲得的CL像,。用低加速電壓觀察CL像,,可以在高分辨率下觀測到金剛石的表面缺陷。
暫無數(shù)據(jù),!