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日本JEOL截面樣品制備裝置IB-19520CCP
IB-19520CCP在加工過程中利用液氮冷卻,，能減輕離子束對樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時(shí)間長,、液氮消耗少的構(gòu)造設(shè)計(jì),。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻,、恢復(fù)到室溫,，并且可以拆卸。配有傳送機(jī)構(gòu),，在隔離空氣的環(huán)境下能完成從加工到觀察的全過程,。
產(chǎn)品規(guī)格：
離子加速電壓 | 2 ～ 8 kV |
離子束直徑 | 500 um( FWHM) |
研磨速率 | 500 um（兩小時(shí)的平均值、8 kV,、硅材質(zhì)換算,、突出量:100 um） |
樣品架冷卻達(dá)到的溫度 | -120 ℃ |
樣品冷卻持續(xù)時(shí)間 | 8小時(shí)以上 |
制冷箱容量 | 約1升 |
承載樣品的**尺寸 | 11mm(長) × 8mm（寬）× 3mm（厚） |
樣品臺移動(dòng)范圍 | X軸：±6mm、Y軸：±2.5mm |
固定樣品方法 | 夾式 |
樣品加工擺角 | ±30° |
加工觀察用相機(jī)的倍率 | 約20～100倍（6.5寸顯示器上） 機(jī)械泵: 150 mm（寬） × 427 mm（長） × 230 mm（高）,、約16 kg |
空氣隔離系統(tǒng) | 轉(zhuǎn)移艙 |
空氣隔離法 | 將艙內(nèi)設(shè)定成氬氣氣氛,，蓋上轉(zhuǎn)移艙蓋子,，將樣品封在艙里,。 |
操作方法 | 觸控屏、6.5寸顯示器 |
使用氣體 | 氬氣(用質(zhì)量流量控制器控制流量) |
壓力測試 | 潘寧真空計(jì) |
主抽真空系統(tǒng) | 渦輪分子泵 |
輔助抽真空系統(tǒng) | 機(jī)械泵 |
尺寸,、重量 | 主機(jī)：約670mm (寬) × 720mm(長) × 530mm(高),、約73kg 機(jī)械泵：約150 mm (寬) × 430 mm(長) × 230 mm(高)、約16kg |
選配件 | 大型旋轉(zhuǎn)樣品架（IB‐11550LSRH),、（IB‐11550LSRH) 基座樣品架 （IB‐11560MBSH) 大型樣品架（IB-11570LSH) 噴碳樣品架（IB-12510CCH） |
電源 | 單相100～120 V±10%,、50/60 Hz、0.6 kVA |
接地線 | 獨(dú)立地線(100 Ω以下) |
氬氣 | 使用壓力：0.15±0.05 MPa(1.0 ～ 2.0 kg/cm2) 純度99.9999%以上(氬氣,、氣瓶及調(diào)壓器由客戶自備) 金屬配管連接口:JISB0203 RC1/4 |
室溫 | 15～25 ℃ |
濕度 | 60%以下 |
產(chǎn)品特點(diǎn)：
★ 冷卻的效果 樣品：鍍鋅鋼板
· 可提供500μm/h（8KV/2小時(shí)的平均值）的研磨速率,。
· ※ 通常加工（無冷卻）時(shí)，鐵和鋅的接合面上能夠觀察到間隙,，而冷卻加工時(shí)則沒有間隙
·★ 使用溫度控制系統(tǒng)（選配件）冷卻 樣品：硅晶片接合面
· ※ 常規(guī)加工由于熱損傷造成粘合劑變形,，出現(xiàn)了很大的間隙。 -150 ℃時(shí),，冷卻過度,，能觀察到膠粘劑和硅晶片研磨面的接合面上出現(xiàn)了間隙，但通過溫度控制冷卻則沒有間隙,。
·★ 合理利用間歇加工,、冷卻功能和溫度控制冷卻功能可支持各種樣品的制備
·
· ★ 進(jìn)程監(jiān)控功能
· 截面加工狀態(tài)可通過CCD相機(jī)實(shí)時(shí)監(jiān)控，倍率還可調(diào)整,。
·★ 防止充放電的噴鍍功能
· 備有離子束濺射功能（選配項(xiàng)）
可以噴涂顆粒感良好的薄涂層,。
*適合于象EBSD等需要花樣識別等情況,。
· ★ 平面離子減薄樣品架
· 以小角度的離子束低角度照射樣品，達(dá)到清除表面污垢,、平滑表面等效果,。
另外也非常適合于選擇性蝕刻。
· ★ 截面樣品制備單元
· 安裝在平面離子減薄樣品架上使用,。該單元可用于在旋轉(zhuǎn)樣品的同時(shí)進(jìn)行離子束加工,。
可以用來制備象多孔質(zhì)材料、粉末,、纖維等容易出現(xiàn)加工條紋的樣品的截面,。
暫無數(shù)據(jù)！
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