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技術(shù)特點(diǎn)▼

l 能夠測量小至1mm的晶體到或更大的樣品

l 各種樣品架及輸送夾具,，用于線鋸、拋光等

l 側(cè)晶方向標(biāo)記選項(xiàng)

l 無水冷卻

l 精度可達(dá)0.01°(視晶體質(zhì)量而定)

l 確定單晶的完全晶格取向

l 使用Omega掃描方法的超高速晶體定位測量

l 氣冷式X射線管,，無需水冷

l 適合于研究和生產(chǎn)質(zhì)量控制

l 手動操作(沒有自動化選項(xiàng))

晶體的方向是由反射位置決定的

可測量材料的例子▼

? 立方/任意未知方向：Si,， Ge,， GaAs,， GaP， InP

? 立方/特殊取向：Ag,， Au,， Ni， Pt,， GaSb,， InAs， InSb,， AlSb,， ZnTe， CdTe,， SiC3C,， PbS,， PbTe， SnTe,， MgO,， LiF， MgAl2O4,， SrTiO3,， LaTiO3

? 正方：MgF2， TiO2,， SrLaAlO4

? 六方/三角：SiC 2H,， 4H， 6H,， 15R,， GaN， ZnO,， LiNbO3,， SiO2(石英)，Al2O3(藍(lán)寶石),，GaPO4,， La3Ga5SiO14

? 斜方晶系：Mg2SiO4 NdGaO3

? 可根據(jù)客戶的要求進(jìn)一步選料

適合多種材料

SDCOM的應(yīng)用▼

平面方向的標(biāo)記和測量

在晶圓片的注入和光刻過程中，需要平面或凹槽作為定位標(biāo)記,。切割過程中,，晶片必須正確地對準(zhǔn)晶圓片上易于切割的晶格面。因此,，檢查平面或缺口的位置至關(guān)重要,。

為了確定平面或缺口的位置，就需要測量平面內(nèi)的部件,。由于Omega掃描法可以在一次測量中確定完整的晶體方位,，基于此，便可以直接識別在平面方向或檢查方向的單位或缺口,。

DDCOM通過旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤,，可以將任何平面方向轉(zhuǎn)換成用戶指定的特定位置。在必須定義平面方向的情況下,，這可以大大簡化將標(biāo)記應(yīng)用到特定平面方向的過程,。