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MDPmap是一個(gè)緊湊的離線臺(tái)式檢測(cè)設(shè)備,主要被設(shè)計(jì)用于生產(chǎn)控制或研發(fā),、測(cè)量少子壽命,、光電導(dǎo)率、電阻率和缺陷信息等參數(shù),。其工作狀態(tài)為穩(wěn)態(tài)或短脈沖激勵(lì)下(μ-PCD),。
MDPmap自動(dòng)化的樣品識(shí)別和參數(shù)設(shè)置可以使該儀器方便地適應(yīng)各種不同的樣品,包括從生長(zhǎng)的晶圓到高達(dá)95%的金屬化晶圓之間不同制備階段的各種外延片和晶圓片,。
MDPmap主要優(yōu)點(diǎn)是其高度的靈活性,,它允許集成多達(dá)4個(gè)激光器,用于從超低注入到高注入的與注入水平相關(guān)的壽命測(cè)量,,或者通過(guò)使用不同的激光波長(zhǎng)提取深度信息,。
設(shè)備特點(diǎn)▼
>>靈敏度:對(duì)外延工藝監(jiān)控和不可見(jiàn)缺陷檢測(cè),具有可視化測(cè)試的較高分辨率
>>測(cè)量速度:6英寸硅晶圓片,,1mm分辨率 ,,小于5分鐘
>>壽命測(cè)試范圍: 20納秒到幾十毫秒
>>沾污檢測(cè):源自坩堝和生長(zhǎng)設(shè)備的金屬(Fe)污染
>>測(cè)量能力:從初始切割的晶圓片到所有工藝加工的樣品
>>靈活性:允許外部激光通過(guò)觸發(fā)器,與探測(cè)模塊耦合
>>可靠性:模塊化和緊湊臺(tái)式儀器,,更高可靠性,,正常運(yùn)行時(shí)間> 99%
>>重現(xiàn)性: > 99.5%
>>電阻率:無(wú)需時(shí)常校準(zhǔn)的電阻率面掃描
Lifetime map of passivated multicrystalline silicon
Iron contamination map of multicrystalline silicon
Bor oxygen map of mono silicon
Trap density map of mono silicon
設(shè)備參數(shù)▼
樣品尺寸 | 5mm—300mm(300mm為標(biāo)配,可根據(jù)需求提升至450mm) |
壽命范圍 | 20ns到幾毫秒 |
電阻率 | 0.2 - 103 Ohm cm |
電導(dǎo)類型 | p/n |
材質(zhì) | 硅晶圓,,外延層,,部分或完全加工晶圓,化合物半導(dǎo)體等 |
測(cè)量屬性 | 少數(shù)載流子壽命,、光電導(dǎo)性 |
激勵(lì)源 | 可選四種不同波長(zhǎng)(355nm—1480nm),,默認(rèn)值為980nm |
大小 | 680 x 380 x 450 mm,, 重量: 65 kg |
電源 | 100-250V,50/60 Hz,, 5A |
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