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美Nano-master兆聲晶圓清洗機SWC-4000

產(chǎn)品特點：

SWC-4000兆聲晶圓清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及Z先進的兆聲清洗,。它可以在一個工藝步驟中包含了**的無損兆聲清洗,、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能,。

SWC-4000兆聲晶圓清洗機應(yīng)用：

,。帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片

。Ge,， GaAs以及InP晶圓片清洗

,。CMP處理后的晶圓片清洗

。晶圓框架上的切粒芯片清洗

,。等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗

,。帶保護膜的分劃版清洗

,。掩模版空白部位或接觸部位清洗

,。X射線及極紫外掩模版清洗

。光學(xué)鏡頭清洗

,。ITO涂覆的顯示面板清洗

,。兆聲輔助的剝離工藝

特點：

。支持12"直徑的圓片或9"x9"方片

,。獨立系統(tǒng)

,。無損兆聲，試劑,，毛刷清洗及旋轉(zhuǎn)甩干

,。微處理機自動控制

?；瘜W(xué)試劑滴膠單元

,。溶劑與酸分離排廢

。熱氮

,。30"D x 26"W 的占地面積

選配項：

,。掩模板或晶圓片夾具

。臭氧清洗

。PVA軟毛刷清洗

,。高壓DI清洗

,。氮氣離子發(fā)生器