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美Nano-master 兆聲晶圓清洗機SWC-3000
產(chǎn)品特點：
SWC-3000兆聲晶圓清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性,、高均勻性及Z先進的兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了**的無損兆聲清洗,、化學(xué)試劑清洗,、刷子清洗以及干燥功能。
應(yīng)用：
,。帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
,。Ge， GaAs以及InP晶圓片清洗
,。CMP處理后的晶圓片清洗
,。晶圓框架上的切粒芯片清洗
。等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
,。帶保護膜的分劃版清洗
,。掩模版空白部位或接觸部位清洗
。X射線及極紫外掩模版清洗
,。光學(xué)鏡頭清洗
,。ITO涂覆的顯示面板清洗
。兆聲輔助的剝離工藝
特點：
,。臺式系統(tǒng)
,。無損兆聲掩模版或晶圓片清洗及旋轉(zhuǎn)甩干
。支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
,。微處理機自動控制
,。IR紅外燈
選配項：
。掩模版或晶圓片夾具
,。PVA軟毛刷清洗
,。化學(xué)試劑清洗(CDU)
,。氮氣離子發(fā)生器
暫無數(shù)據(jù),！
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