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日本SEN紫外UV清洗機SUV110X26
定制電話：廖生
主要特性用途：
UV清洗燈同時發(fā)出185NM，254NM光波,，UV光照度(254NM)：15-25MW/CM2,， 可以清洗PCB/FPC/塑膠/金屬/玻璃/陶瓷硅/電子器件等表面有機污染物及輕微改質，增強表面附著力,，達因值45以上,，適合生產(chǎn)過程流水線批量作業(yè)。典型客戶案例：住友電工（深圳）,，松下半導體（蘇州）,，張家港康得新材料，杭州納晶科技,，HITACHI,， SANYO， TOSHIBA,，JDC,， 技研新陽，中科院研究所,，浙江大學,，南京工業(yè)大學，北京理工大學,，上海大眾汽車電子,，上海延鋒偉世通汽車電子， 南玻,，京東方等,。
1.0 設備構造概述:
型號 | UV清洗機LXY-SUV110X26 | |
規(guī)格 | L3500mm*W950mm*H1840mm | |
序號 | 名稱 | 規(guī) 格 |
1 | 機架 | 外形部分：外形材質采用T1.2 冷板折彎，箱體靜電噴塑（不同一般噴漆,，高檔,、易清洗、耐腐蝕）電腦白,，箱底配4個3〞萬向輪,。進料,、出料部分各長500mm，光源及遮光部分長2500mm,，進料口高度50mm,，前后配擋板可調高低。 |
2 | UV區(qū) | 采用26 套日本SEN進口110W UV 清先光源,，燈管有效發(fā)光長為560 mm,，波長254nm及185nm， 燈箱長度約為1500MM,，燈管自左至右并列分布在爐腔,，加裝UV 鏡面反光燈罩，有效提高紫外線的使用率,。UV 燈可單獨控制,，燈管高度可上下調節(jié)。燈管上方裝有抽風裝置,，有效散發(fā)UV燈管照射帶來的熱量,，以及把UV燈產(chǎn)生的臭氧排到室外；UV光照部分鋪304#鏡面板,。 |
3 | 傳動部分 | 采用180W 電子調速馬達速度數(shù)字顯示器,，速度0.5~3M/min 可調，采用動力滾筒配黑色耐熱特氟龍網(wǎng)帶,，帶寬600mm,。 |
4 | 循環(huán)風部分 | 設備頂部加裝高效凈風系統(tǒng)FFU,，采用強制冷風,，UV 區(qū)設有維修門，方便打開清理及維護,。底部配大風量臺灣離心風機,，風量可調，有效降低產(chǎn)品及UV 爐內的溫度,，提高燈管壽命,。 |
5 | 電器部分 | 電源采用三相五線制，總功率約4KW,，380V,，每盞燈可獨立控制、每盞燈配有計時器,，總電源開關,，設有緊急停止，主要電器元件為正泰品牌,。 設備控制系統(tǒng)采用信捷PLC+人機界面,，可記錄每支燈管的使用時長,。 |
紫外光UV清洗原理
紫外線清洗是是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除附著在材料表面的有機物質。經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達到原子級清潔度,。
其主要原理為紫外線燈發(fā)出的185nm波長和254nm波長具有很高的能量,，高于大多數(shù)有機物的結合能量。由于大多數(shù)碳氫化合物對185nm波長的紫外線具有較強的吸收能力,，并且可以在吸收185nm波長后分解成離子,，流離態(tài)原子，受激分子和中子等,，這就是光敏作用,。空氣中的氧分子在吸收了185nm波長的紫外光后,，會產(chǎn)生臭氧和氧氣,，臭氧對254nm波長具有很強的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣,。氧原子具有極強的氧化性,，可以將碳氫化合鍵切斷，生成水和二氧化碳等易揮發(fā)氣體,，從被照射物表面飄逸出,，徹底清除物體表面的污染物。
應 用
紫外線UV光清洗技術的應用范圍:
1.各種材料(ITO玻璃,，光學玻璃,，鉻板，掩膜版,，拋光石英晶體,，硅)晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理;
2.清除石臘，松香,，油脂,，人體體油以及殘余的光刻膠/聚酰亞胺和環(huán)氧樹脂
3.高精度PCB焊接前的清洗和去除殘余的焊劑以及敷銅箔層壓板的表面清潔和氧化層生成；
4.超高真空密封技術和熱壓焊接前的表面清潔處理以及各種微型元件的清洗
5,。在LCD,、OLED， Touch Panel科研/生產(chǎn)中,，在涂光刻膠,、PI膠、定向膜,、鉻膜,、色膜前經(jīng)過光清洗，可以極大的提高基體表面潤濕性,，增強基體表面的粘合力,；
6,。印制電路板生產(chǎn)中，對銅底板,，印刷底板進行光清洗和改質,，在導線焊接前進行光清洗，可以提高熔焊的接觸面積,，大大增加連接強度,。特別是高精度印制電路板，當線距達到亞微米級時,，光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒,，可以大大提高印制電路板的質量。
7,。大規(guī)模集成電路的密度越來越高,，晶格的微細化越來越密，要求表面的潔凈度越來越高,，光清洗可以有效地實現(xiàn)表面的原子清潔度,，而且對芯片表面不會造成損傷。
8,。在半導體生產(chǎn)中,，硅晶片涂保護膜、鋁蒸發(fā)膜前進行光清洗,，可以提高粘合力,，防止針孔、裂縫的發(fā)生
9,。在光盤的生產(chǎn)中,，沉積各種膜前作光清洗準備，可以提高光盤的質量,。
10,。磁頭固定面的粘合,，磁頭涂敷,，以及提高金屬絲的連接強度，光清洗后效果好,。
11,。石英晶體振蕩器生產(chǎn)中，除去晶體檢測后涂層上的墨跡,，晶體在銀蒸發(fā)沉積前,，進行光清洗可以提高鍍膜質量和產(chǎn)品性能。
12,。在IC卡表面插裝ROM前,，經(jīng)過光清洗可提高產(chǎn)品質量,。
13。彩色濾光片生產(chǎn)中,，光清洗后能徹底洗凈表面的有機污染物,。
14。敷銅箔層壓板生產(chǎn)中,，經(jīng)過光照改質,，不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護氧化層，產(chǎn)品質量顯著提高
15,。光學玻璃經(jīng)過紫外光清洗后,，鍍膜質量更好。
16,。樹脂透鏡光照后,，能加強與防反射板的粘貼性。
暫無數(shù)據(jù),！
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