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德國Parcan（Nano analytik)掃描針尖電子束光刻機SPL
簡介：
公司以全球****的針尖技術為核心競爭力,，技術源自于德國伊爾默瑙工業(yè)大學，致力于主動式針尖技術在微納米結構制備和表征方面的研發(fā),，及其相關設備的產(chǎn)業(yè)化,。
公司研制一套基于掃描針尖低能電子場發(fā)射的原理,、采用壓阻式微納米針尖和多維納米定位與測量技術、在半導體器件材料表面制造尺寸小于5納米線寬結構的高性能微納加工系統(tǒng),。公司致力于為微納米制造企業(yè)提供制備微納米功能結構和功能器件（比如**速且*省電的基于單電子器件的芯片）的高性能設備和技術服務,。
技術特點：
。場發(fā)射低能電子束
,。大幅降低電子束背底散射
,。幾乎消除電子束臨近效應
。光刻5納米以下單線寬結構
,。光刻結構間距小于2納米
,。接近原子級分辨的套刻精度
。線寫速度高達 300 μm/s
,。大氣環(huán)境下可實現(xiàn)正負光刻
,。正光刻流程無需顯影步驟
。無需調制電子束聚光
,。大范圍分步重復工藝
,。Mix & Match 混合光刻模式
。針尖曝光與結構成像實時進行
,。真空原位觀測光刻圖案
暫無數(shù)據(jù),！
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