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德國Eulitha高分辨紫外光刻機PhableR 100

科研/生產兼用

簡介：

PhableR 100 紫外光刻機是一套低成本的光學曝光系統(tǒng),，但卻能獲得高分辨率的周期性結構,。同傳統(tǒng)的紫外曝光機類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,，被紫外光束照射,。由于Eulitha擁有突破性的PHABLE 曝光技術，在"PHABLE"模式下,，分辨率不再受到衍射的限制,，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結果非常均勻,，質量很 好,；在"mask aligner"模式下，能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形,。

特點：

· 高效的大面積亞微米-納米圖形化設備

· 操作簡單,、工作穩(wěn)定,，兼容科研及批量生產

· 納米周期性圖案解決方案

優(yōu)勢：

· 大面積圖形化設備：適用4、6,、8寸襯底

· 高曝光效率：非步進式曝光,，無拼接，單次全場曝光實現(xiàn)整片圖形化

· 高精度：光學衍射自成像原理,，突破傳統(tǒng)曝光精度極限

· 非接觸式曝光

· 設備沒有景深限制,，曝光過程無需對焦

· 雙工作模式（UV375機型）：高分辨模式（周期性納米-微米結構），一般紫外光刻模式（非周期結構）

· 設備采用通用的商業(yè)光刻膠,，根據(jù)客戶的圖形,，提供工藝技術支持。

技術指標：

光源 UV375nm DUV266nm DUV193nm

分辨率 125nm 75nm 62nm

周期范圍 250-3000nm 150-2500nm 125-2000nm

操作方式 手動裝片-自動曝光 參數(shù)設置 觸摸屏

基片尺寸 **4,、6,、8英寸（尺寸向下兼容）

PhableR 100 晶圓級光子學結構的曝光工具

應用：

· 圖形化藍寶石襯底（PSS）

· DFB布拉格光柵

· 減反層圖形

· 顯示濾光片Color Filter

· 線柵偏振Wire Grid Polarizer（WGP）

· 光子晶體

· 磁性納米結構

· 太陽能光伏

· 生物傳感器

· AR、VR技術