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英國Durham小型臺式無掩膜光刻機Microwriter ML3
小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)是英國Durham Magneto Optics公司專為實驗室設計開發(fā),,為微流控,、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案,。
傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應商提供,,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩膜板的設計通常需要經(jīng)常改變,。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板 的方法,,克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統(tǒng)工藝不同,,激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關,,在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。
Microwriter ML 3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),,具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),,無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,,高分辨率的特點,。采用集成化設計,全自動控制,,可靠性高,,操作簡便。適用于各種實驗室桌面,。
產(chǎn)品特點
Focus Lock自動對焦功能
Focus lock技術是利用自動對焦功能對樣品表面高度進行探測,,并通過Z向調(diào)整和補償,,
以保證曝光分辨率。
光學輪廓儀
Microwriter ML3 配備光學輪廓探測工具,,用于勻膠后沉積層,,蝕刻層,MEMS等前道結構的形貌探測與套刻,。
Z向**精度100 nm,,方便快捷。
標記物自動識別
點擊“Bulls-Eye”按鈕,,系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標記,。
標記物被識別后,將自動將其移動到顯微鏡中心位置,。
別直寫前預檢查
軟件可以實時顯微觀測基體表面,,并顯示預直寫圖形位置,。通過實時調(diào)整位置、角度,,
直到設計圖形按要求與有結構重合,,保證直寫準確,。
簡單的直寫軟件
MicroWriter 由一個簡單直觀的Windows界面軟件控制,。工具欄會引導使用者進行簡單的布局設計、
基片對準和曝光的基本操作,。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運行,。
Clewin 掩模圖形設計軟件
•可以讀取多種圖形設計文件(DXF, CIF,, GDSII,, 等)
•可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式
•書寫范圍只由基片尺寸決定
直寫分辨率1μm
直寫分辨率0.6μm
微電極制備
微結構制備
微流通道制備
暫無數(shù)據(jù),!