參考價(jià)格
面議型號(hào)
品牌
產(chǎn)地
日本樣本
暫無(wú)看了日本JEOL電子束光刻機(jī)JBX-3200MV的用戶又看了
虛擬號(hào)將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號(hào)
日本JEOL電子束光刻機(jī)JBX-3200MV
JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng),。 ***的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性,。 是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進(jìn)重復(fù)式的光刻系統(tǒng)?
產(chǎn)品規(guī)格:
拼接精度 | ≦±3.5 nm |
套刻精度 | ≦±5 nm |
產(chǎn)品特點(diǎn):
· JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng),。
· ***的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性,。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進(jìn)重復(fù)式的光刻系統(tǒng)
· 利用步進(jìn)重復(fù)式曝光的優(yōu)點(diǎn),,結(jié)合曝光劑量調(diào)整功能及重疊曝光等功能,能支持下一代掩模版/中間掩模版(mask/reticle)圖形制作所需要的多種補(bǔ)償,。
暫無(wú)數(shù)據(jù),!