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日本JEOL電子束光刻機JBX-6300FS
JBX-6300FS的電子光學系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動調(diào)整直徑為(計算值)2.1nm的電子束,,簡便地描畫出線寬在8nm以下(實際可達5nm)的圖形。 此外,,該光刻系統(tǒng)還實現(xiàn)了9nm以下的場拼接精度和套刻精度,,性能比優(yōu)越。 利用*細電子束束斑(實測值直徑≦2.9nm)可以描畫8nm以下(實際可達5nm)極為精細的圖形,。
產(chǎn)品規(guī)格:
電子槍 | ZrO/W 肖特基型 |
描畫方式 | 描畫方式 |
加速電壓 | 25kV (選配),, 50kV, 100kV |
樣品尺寸 | **200mmΦ的晶圓片,, ** 5英寸或 6英寸的掩模版,, 任意尺寸的的微小樣品。 |
樣品尺寸 | 2000μmX2000μm |
樣品臺移動范圍 | 190mmX170mm |
套刻精度 | ≦±9nm |
場拼接精度 | ≦±9nm |
掃描速度 | ** 50MHz |
產(chǎn)品特點:
· JBX-6300FS的電子光學系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動調(diào)整直徑為(計算值)2.1nm的電子束,,簡便地描畫出線寬在8nm以下(實際可達5nm)的圖形,。
· 此外,該光刻系統(tǒng)還實現(xiàn)了9nm以下的場拼接精度和套刻精度,,性能比優(yōu)越,。
· 利用*細電子束束斑(實測值直徑≦2.9nm)可以描畫8nm以下(實際可達5nm)極為精細的圖形。本公司獨特的DF/DS系統(tǒng)能對電子束偏轉(zhuǎn)產(chǎn)生的畸變進行校正,,具有球差和象散自動補償功能,,可在場邊角、場邊界處進行高精度地描畫,。
· 該系統(tǒng)采用了19位DAC和樣品臺控制精度為0.6nm的激光干渉儀,,實現(xiàn)了業(yè)界**水準的位置精度、拼接,、套刻精度(±9nm),。 可用于位置精度要求很高的光子器件,、通信設備等領域的研究和開發(fā),。
· 本公司獨自的自動校正功能(自動補償功能),實現(xiàn)了可信賴的長時間穩(wěn)定地描畫,。自動補償可以根據(jù)時間(任意的),、場和圖形進行分別設定,非常適合于周末及休假等無人值守等情況下的長時間描畫,。
· **掃描速度高達50MHz,,再加上**程度地抑制了機器的準備操作時間,因此縮短了描畫時間,,到描畫開始為止的作業(yè)非常簡單,,聚焦也能夠自動進行,,因而能提高總產(chǎn)出量。
· 使用自動裝載系統(tǒng)(選配),,*多可以連續(xù)描畫10個樣品架,。(例:可連續(xù)描畫10張6英寸的晶圓片或者40張2英寸的晶圓片等?!B續(xù)描畫時,需要和材料數(shù)相應的樣品架,。)目前在日本國內(nèi)外已有這樣的生產(chǎn)線,。
· 利用微間距控制程序(場尺寸精調(diào)程序),可以制作DFB激光器等的啁啾光柵,。
暫無數(shù)據(jù),!