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日本JEOL電子束光刻機(jī)JBX-6300FS
JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動調(diào)整直徑為(計(jì)算值)2.1nm的電子束,,簡便地描畫出線寬在8nm以下(實(shí)際可達(dá)5nm)的圖形。 此外,,該光刻系統(tǒng)還實(shí)現(xiàn)了9nm以下的場拼接精度和套刻精度,,性能比優(yōu)越。 利用*細(xì)電子束束斑(實(shí)測值直徑≦2.9nm)可以描畫8nm以下(實(shí)際可達(dá)5nm)極為精細(xì)的圖形,。
產(chǎn)品規(guī)格:
電子槍 | ZrO/W 肖特基型 |
描畫方式 | 描畫方式 |
加速電壓 | 25kV (選配),, 50kV, 100kV |
樣品尺寸 | **200mmΦ的晶圓片,, ** 5英寸或 6英寸的掩模版,, 任意尺寸的的微小樣品。 |
樣品尺寸 | 2000μmX2000μm |
樣品臺移動范圍 | 190mmX170mm |
套刻精度 | ≦±9nm |
場拼接精度 | ≦±9nm |
掃描速度 | ** 50MHz |
產(chǎn)品特點(diǎn):
· JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動調(diào)整直徑為(計(jì)算值)2.1nm的電子束,簡便地描畫出線寬在8nm以下(實(shí)際可達(dá)5nm)的圖形,。
· 此外,,該光刻系統(tǒng)還實(shí)現(xiàn)了9nm以下的場拼接精度和套刻精度,性能比優(yōu)越,。
· 利用*細(xì)電子束束斑(實(shí)測值直徑≦2.9nm)可以描畫8nm以下(實(shí)際可達(dá)5nm)極為精細(xì)的圖形,。本公司獨(dú)特的DF/DS系統(tǒng)能對電子束偏轉(zhuǎn)產(chǎn)生的畸變進(jìn)行校正,具有球差和象散自動補(bǔ)償功能,,可在場邊角,、場邊界處進(jìn)行高精度地描畫。
· 該系統(tǒng)采用了19位DAC和樣品臺控制精度為0.6nm的激光干渉儀,,實(shí)現(xiàn)了業(yè)界**水準(zhǔn)的位置精度,、拼接、套刻精度(±9nm),?!】捎糜谖恢镁纫蠛芨叩墓庾悠骷⑼ㄐ旁O(shè)備等領(lǐng)域的研究和開發(fā),。
· 本公司獨(dú)自的自動校正功能(自動補(bǔ)償功能),,實(shí)現(xiàn)了可信賴的長時(shí)間穩(wěn)定地描畫。自動補(bǔ)償可以根據(jù)時(shí)間(任意的),、場和圖形進(jìn)行分別設(shè)定,,非常適合于周末及休假等無人值守等情況下的長時(shí)間描畫。
· **掃描速度高達(dá)50MHz,,再加上**程度地抑制了機(jī)器的準(zhǔn)備操作時(shí)間,,因此縮短了描畫時(shí)間,到描畫開始為止的作業(yè)非常簡單,,聚焦也能夠自動進(jìn)行,,因而能提高總產(chǎn)出量。
· 使用自動裝載系統(tǒng)(選配),,*多可以連續(xù)描畫10個(gè)樣品架,。(例:可連續(xù)描畫10張6英寸的晶圓片或者40張2英寸的晶圓片等?!B續(xù)描畫時(shí),,需要和材料數(shù)相應(yīng)的樣品架。)目前在日本國內(nèi)外已有這樣的生產(chǎn)線,。
· 利用微間距控制程序(場尺寸精調(diào)程序),,可以制作DFB激光器等的啁啾光柵。
暫無數(shù)據(jù),!