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日本JEOL電子束光刻機(jī)JBX-9500FS
JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng),,兼具世界**水平的產(chǎn)出量和定位精度,,**能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版,適合納米壓印,、光子器件,、通信設(shè)備等多個(gè)領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn)。
產(chǎn)品規(guī)格:
電子槍 | ZrO/W 肖特基型 |
描畫方式 | 圓形束,, 矢量掃描,, 步進(jìn)重復(fù)式 |
加速電壓 | 100kV |
樣品尺寸 | 樣品尺寸 (可以安裝): **300mmΦ的晶圓片, **6英寸的掩模版,, 任意尺寸的的微小樣品,。 |
**場(chǎng)尺寸 | 1000μm×1000μm |
樣品臺(tái)移動(dòng)范圍 | 260mmX240mm |
樣品臺(tái)控制單元 | 0.15nm(λ/4096) |
套刻精度 | ≦±11nm |
場(chǎng)拼接精度 | ≦±10nm (場(chǎng)尺寸為1000μm×1000μm) |
寫場(chǎng)內(nèi)位置精度 | ≦±9nm(場(chǎng)尺寸為1000μm×1000μm) |
定位DAC | 20位 |
掃描速度 | ** 100MHz |
產(chǎn)品特點(diǎn):
· JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng),兼具世界**水平的產(chǎn)出量和定位精度,,**能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版,,適合納米壓印、光子器件,、通信設(shè)備等多個(gè)領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn),。
· 此外,,由于具有100MHz的*快掃描速度,場(chǎng)尺寸在1000μm×1000μm時(shí)的套刻精度達(dá)到±11nm,、場(chǎng)拼接精度為±10nm,、寫場(chǎng)內(nèi)位置精度達(dá)±9nm,是兼具世界**水準(zhǔn)產(chǎn)出率和位置精度的100kV圓形束光刻系統(tǒng),。
· 由于采用的位置偏轉(zhuǎn)DAC為20位,,掃描DAC為14位,能獲得0.25nm的掃描步距,,分辨率更高,,描畫數(shù)據(jù)增長(zhǎng)1nm,可以更忠實(shí)地再現(xiàn)描畫數(shù)據(jù),。
· *快達(dá)到100MHz的高速化掃描速度,,保證了大電流描畫時(shí)的掃描步距很短,因而能提高對(duì)精度要求極高的圖形描畫的產(chǎn)出量,。
· 由激光束控制(LBC)的0.15nm(λ/4096)的*小定位單位及高分辨率,,達(dá)到了世界**水準(zhǔn)的位置精度。
· 本公司獨(dú)自的自動(dòng)校正功能(自動(dòng)補(bǔ)償功能),,實(shí)現(xiàn)了可信賴的長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定地描畫,。自動(dòng)補(bǔ)償可以根據(jù)時(shí)間(任意的)、場(chǎng)和圖形進(jìn)行分別設(shè)定,,非常適合于周末及休假等無(wú)人值守等情況下的長(zhǎng)時(shí)間描畫,。
· 該系統(tǒng)**能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的光掩模版,適合于納米壓印,、光子器件,、通信設(shè)備等各種領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn)。采用材料卡匣傳送系統(tǒng)(選配),,*多可裝載10個(gè)卡匣,。
· 利用微間距控制程序(場(chǎng)尺寸微調(diào)程序)可以制作DFB激光器等的啁啾光柵。
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