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日本JEOL電子束光刻機JBX-9500FS
JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng),兼具世界**水平的產(chǎn)出量和定位精度,,**能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版,,適合納米壓印、光子器件,、通信設(shè)備等多個領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn),。
產(chǎn)品規(guī)格:
電子槍 | ZrO/W 肖特基型 |
描畫方式 | 圓形束, 矢量掃描,, 步進重復(fù)式 |
加速電壓 | 100kV |
樣品尺寸 | 樣品尺寸 (可以安裝): **300mmΦ的晶圓片,, **6英寸的掩模版, 任意尺寸的的微小樣品,。 |
**場尺寸 | 1000μm×1000μm |
樣品臺移動范圍 | 260mmX240mm |
樣品臺控制單元 | 0.15nm(λ/4096) |
套刻精度 | ≦±11nm |
場拼接精度 | ≦±10nm (場尺寸為1000μm×1000μm) |
寫場內(nèi)位置精度 | ≦±9nm(場尺寸為1000μm×1000μm) |
定位DAC | 20位 |
掃描速度 | ** 100MHz |
產(chǎn)品特點:
· JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng),,兼具世界**水平的產(chǎn)出量和定位精度,,**能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版,適合納米壓印,、光子器件,、通信設(shè)備等多個領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn)。
· 此外,,由于具有100MHz的*快掃描速度,,場尺寸在1000μm×1000μm時的套刻精度達到±11nm、場拼接精度為±10nm,、寫場內(nèi)位置精度達±9nm,,是兼具世界**水準產(chǎn)出率和位置精度的100kV圓形束光刻系統(tǒng)。
· 由于采用的位置偏轉(zhuǎn)DAC為20位,,掃描DAC為14位,,能獲得0.25nm的掃描步距,分辨率更高,,描畫數(shù)據(jù)增長1nm,,可以更忠實地再現(xiàn)描畫數(shù)據(jù)。
· *快達到100MHz的高速化掃描速度,,保證了大電流描畫時的掃描步距很短,,因而能提高對精度要求極高的圖形描畫的產(chǎn)出量。
· 由激光束控制(LBC)的0.15nm(λ/4096)的*小定位單位及高分辨率,,達到了世界**水準的位置精度,。
· 本公司獨自的自動校正功能(自動補償功能),實現(xiàn)了可信賴的長時間穩(wěn)定地描畫,。自動補償可以根據(jù)時間(任意的),、場和圖形進行分別設(shè)定,非常適合于周末及休假等無人值守等情況下的長時間描畫,。
· 該系統(tǒng)**能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的光掩模版,,適合于納米壓印、光子器件,、通信設(shè)備等各種領(lǐng)域的研發(fā)及生產(chǎn)。采用材料卡匣傳送系統(tǒng)(選配),,*多可裝載10個卡匣,。
· 利用微間距控制程序(場尺寸微調(diào)程序)可以制作DFB激光器等的啁啾光柵。
暫無數(shù)據(jù),!