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光刻機(jī)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),，曝光系統(tǒng),，光刻系統(tǒng)，光刻機(jī),，紫外曝光機(jī)等,；ECOPIA為全球**的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn),，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體,、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域,；該公司是目前世界上*早將光刻機(jī)商品化的公司之一,，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多**企業(yè),、研發(fā)中心,、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù),、精湛的工藝和良好的服務(wù),，贏得了用戶的青睞。

產(chǎn)地：韓國ECOPIA公司,，**能做到圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻機(jī),，高性價(jià)比

型號：M-150

技術(shù)規(guī)格：

- 掩模尺寸：**7英寸,；

- 樣品尺寸：**6英寸；

- 卡盤移動：X,，Y,，Z，Theta軸手動,，楔形補(bǔ)償調(diào)平,；

- 紫外光源：6.25" X 6.25"；

- 光源功率：350瓦紫外燈,；

- 光源均勻性：<+/-3%,；

- 光源365nm波長強(qiáng)度：**30毫瓦；

- 顯微鏡：雙顯微鏡系統(tǒng),；

- 顯微鏡移動：X,，Y，Z軸手動調(diào)節(jié),；

- 顯微鏡物鏡空間：50-150mm,；

- 標(biāo)配放大倍率：80X-400X；

- 顯示器：20" LCD,；

- 曝光時(shí)間：0.1-999秒,；

- 接觸模式：真空接觸，硬接觸,，軟接觸,，接近接觸(距離可調(diào))；

- 對準(zhǔn)精度：1um (Vacuum Contact),， 1.5um(Hard Contact),， 3um(Soft Contact)， 5um(Proximity Mode),；

- 電源：220V,，單相，15安培,；

主要特點(diǎn):

- 光源強(qiáng)度可控,；

- 紫外曝光,，深紫外曝光(Option),；

- 系統(tǒng)控制：手動、半自動和全自動控制,；

- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調(diào)),，Proximity接近模式， 投影模式,；

- 真空吸盤范圍可調(diào),；

- **技術(shù)：可雙面對準(zhǔn)，可雙面光刻，具有IR和CCD模式

- 雙CCD顯微鏡系統(tǒng),，**放大1000倍,，顯示屏直接調(diào)節(jié)，比傳統(tǒng)目鏡對準(zhǔn)更方便快捷,，易于操作,。

- 特殊的基底卡盤可定做；

- 具有楔形補(bǔ)償功能,；