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脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)
脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)

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上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司

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脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD),、激光分子束外延設(shè)備(L-MBE) 設(shè)備簡(jiǎn)介:

產(chǎn)地:美國(guó)NBM

PLD是將脈沖激光透過(guò)合成石英窗導(dǎo)入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài),,然后被堆積到設(shè)在對(duì)面的基板上而成膜,。PLD方法可以獲得擁有熱力學(xué)理論上準(zhǔn)穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成新材料。

我司PLD特點(diǎn):我們PLD系統(tǒng)擁有**的性能價(jià)比,,具有以下優(yōu)異的性能:

  • 主真空室腔體直徑18英寸,,本底真空可達(dá)高真空:9X10E-9 Torr(要用Load-lock)。

  • 主真空室抽氣系統(tǒng)前級(jí)泵采用無(wú)油干泵

  • ★基片加熱溫度**可達(dá)1200℃,。

  • 基片臺(tái)可360度旋轉(zhuǎn)(轉(zhuǎn)速1-20rpm可調(diào)),。

  • ★基片與靶之間方位采用靶在下方,基片在上方,,均水平放置,。基片與靶間距沿Z軸(即垂直地面方向)可調(diào),。

  • 6個(gè)裝靶的坩堝(或靶盤(pán)),,各坩堝之間要求相互隔離,不互相污染,。

  • ★激光器:Coherent 公司COMPexPro 201:Wavelength: 248 nm (KrF),;Pulse Energy:700mJ;Max. Rep. Rate :10 Hz,;Energy stability (one sigma) : 1%,; Average Power: 5W;Pulse Duration: 25 ns;Beam Dimensions(V×H): 24×10 mm,;Beam Divergence(V×H): 3×1 mrad.

  • ★L(fēng)oad Lock System一套(裝樣-送樣系統(tǒng)一套),,采用transferengineering公司(Transfer Engineering and Manufacturing, Inc)的,,本底真空1×10-5Pa,,帶相應(yīng)的分子泵。同一Load Lock系統(tǒng)既可以傳遞靶又可以傳遞基片,,可兩者間切換操作,。

  • 設(shè)備及光學(xué)臺(tái)可聯(lián)接在一起,始終保持腔體和激光束位置穩(wěn)定,。支撐腿帶可調(diào)節(jié)的轉(zhuǎn)輪,,方便在地面整體(包括腔體系統(tǒng)和激光器)同時(shí)移動(dòng)與固定。

具體配置: 一,, 超高真空腔體

二,, 分子泵

三, 激光掃描系統(tǒng)

四,, 襯底加熱鉑金片,,**可達(dá)1200度

五, 基板加熱構(gòu)造設(shè)計(jì)

六,, 基板加熱電源

七,, Rheed

八, Rheed軟件

九,, 多靶位 ,,標(biāo)準(zhǔn)配置6個(gè)1英寸靶

十, Load-Lock樣品傳輸腔體

技術(shù)參數(shù):

1. 靶:數(shù)量6個(gè),,大小1-2英寸,,被激光照射時(shí)可自動(dòng)旋轉(zhuǎn),靶的選擇可通過(guò)步進(jìn)電機(jī)控制,。

2. 基板:采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片,大小2英寸,,加熱溫度可達(dá)1200攝氏度,,溫度差<3%,加熱時(shí)基板可旋轉(zhuǎn),,工作環(huán)境**壓力是300mtorr,。

3. 基板加熱電源。

4. 超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質(zhì),,內(nèi)表面電解拋光,,本底真空度<5e-7 pa。

5. 樣品傳輸室:不銹鋼sus304材質(zhì),內(nèi)表面電解拋光,,本底真空度<5e-5 pa,。

6. 排氣系統(tǒng):分子泵和干式機(jī)械泵,進(jìn)口知名品牌,。

7. 閥門(mén):采用超高真空擋板閥,。

8. 真空檢測(cè):真空計(jì)采用進(jìn)口產(chǎn)品

9. 氣路兩套:采用氣體流量計(jì)(MFC)。

10. 薄膜成長(zhǎng)監(jiān)控系統(tǒng):采用掃描型Rheed(可差分抽氣),。

11. 監(jiān)控軟件系統(tǒng):基板溫度的監(jiān)控和設(shè)定,,基板和靶的旋轉(zhuǎn),靶的更換,。

12. 各種電流導(dǎo)入及測(cè)溫端子,。

13. 其它各種構(gòu)造:各種超高真空位移臺(tái),磁力傳輸桿,,超高真空法蘭,,超高真空密封墊圈,超高真空用波紋管等,。

感謝河南師范大學(xué)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,, 清華大學(xué)先進(jìn)材料重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室北京大學(xué)微電子系華中科技大學(xué)材料學(xué)院 使用此研究級(jí)高性能的PLD系統(tǒng),, 望我們高性能價(jià)格比的PLD為廣大科研人員提供幫助?。?/strong>

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性?xún)r(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
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  • 脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)的工作原理介紹,?
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  • 脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)的操作規(guī)程有嗎,?
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  • 脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)有現(xiàn)貨嗎,?
  • 脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)包安裝嗎,?
脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)信息由上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司為您提供,如您想了解更多關(guān)于脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)報(bào)價(jià),、型號(hào),、參數(shù)等信息,,歡迎來(lái)電或留言咨詢(xún)。
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