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多功能電感耦合等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（CVD）是用來(lái)制備高純,、高性能固體薄膜的主要技術(shù)，主要借助微波或射頻的方法將目標(biāo)氣體進(jìn)行電離,，促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)在較低的溫度下進(jìn)行,，從而在基片上沉積出所期望的薄膜。
目前項(xiàng)目團(tuán)隊(duì)自主研發(fā)的CVD設(shè)備可在多種襯底上（如金屬,、氧化物,、半導(dǎo)體表面）直接生長(zhǎng)以石墨烯為代表的各類新型二維材料，用于新材料,、新器件的研發(fā),。工藝簡(jiǎn)單廉價(jià)，且具有傳統(tǒng)半導(dǎo)體生長(zhǎng)工藝的兼容性,。
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近日，浙江大學(xué)張澤院士、王江偉研究員團(tuán)隊(duì)作為第一單位在《Nat. Commun.》上發(fā)表了題為《In situ atomistic observation of disconnection-media
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