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磁控濺射鍍膜機 - 緊湊,,適合科研,,極高性價比!
型號:AP-MMS1
產(chǎn)地:韓國原裝進口
儀器特點:
1/ 沉積材料:金屬,、氧化物等,;
2/ 膜厚均勻性:≤ ± 5 % (4英寸基底);
3/ 沉積方式:直流磁控濺射,,射頻磁控濺射,;
4/ 極限真空:5.0 x 10 -6 Torr;
技術(shù)規(guī)格:
1/ **樣品尺寸:6英寸,;
2/ 基底旋轉(zhuǎn):0~10rpm;
3/ 不銹鋼腔體,,ID250 x H300 mm,;
4/ 真空泵:機械泵,150L/Min,;
5/ 靶槍:2英寸直徑 (選配:3英寸),;
6/ 直流電源:2KW(800V - 2.5A);
7/ 氣體傳輸模塊:MFC控制,,氬氣,,100sccm;
暫無數(shù)據(jù),!