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緊湊磁控濺射鍍膜機
緊湊磁控濺射鍍膜機

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韓國

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上海載德半導體技術有限公司

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磁控濺射鍍膜機 - 緊湊,,適合科研,,極高性價比!

型號:AP-MMS1

產地:韓國原裝進口

儀器特點:

1/ 沉積材料:金屬,、氧化物等,;

2/ 膜厚均勻性:≤ ± 5 % (4英寸基底);

3/ 沉積方式:直流磁控濺射,,射頻磁控濺射,;

4/ 極限真空:5.0 x 10 -6 Torr;

技術規(guī)格:

1/ **樣品尺寸:6英寸,;

2/ 基底旋轉:0~10rpm,;

3/ 不銹鋼腔體,ID250 x H300 mm,;

4/ 真空泵:機械泵,,150L/Min;

5/ 靶槍:2英寸直徑 (選配:3英寸),;

6/ 直流電源:2KW(800V - 2.5A),;

7/ 氣體傳輸模塊:MFC控制,氬氣,,100sccm,;

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10分

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10分

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