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擴(kuò)散爐、低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備(LPCVD)
產(chǎn)地：韓國,；
有單管和雙管兩個不同的型號,，用于科研或者小規(guī)模生產(chǎn)。
性能和特點(diǎn)：
- 溫度范圍：500 ~ 1000攝氏度,；
- 氣體混合能力(帶有質(zhì)量流量計),；
- 真空范圍：~ 10-6 Torr；
典型應(yīng)用：
- 無應(yīng)力氮化硅,；
- LPCVD,；
- 退火；
- 氧化,；
- 其他...
暫無數(shù)據(jù),！
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