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擴散爐,、低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備(LPCVD)
產(chǎn)地：韓國,；
有單管和雙管兩個不同的型號，用于科研或者小規(guī)模生產(chǎn),。
性能和特點：
- 溫度范圍：500 ~ 1000攝氏度,；
- 氣體混合能力(帶有質(zhì)量流量計)；
- 真空范圍：~ 10-6 Torr,；
典型應(yīng)用：
- 無應(yīng)力氮化硅,；
- LPCVD；
- 退火,；
- 氧化,；
- 其他...
暫無數(shù)據(jù),！
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