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該系統(tǒng)可以作為以下功能裝置：

1,，研發(fā)級R&D鍍膜設(shè)備，性能優(yōu)異

2,，具備所有研發(fā)級別的鍍膜要求

3,，高效的沉積速率，鍍膜時(shí)間快

4,， 實(shí)驗(yàn)室中培訓(xùn)的**工具

主要的特點(diǎn)和先進(jìn)的功能：

1,， 臺(tái)式，小型,，快速

2,，全自動(dòng)化程序控制

3，單靶或多靶聯(lián)合濺射鍍膜,，多路氣體管路

4,，共聚焦設(shè)計(jì)，靶槍尺寸：2英寸,，3英寸,，4英寸，襯底可做到200mm,，旋轉(zhuǎn)1-20RPM,，以及Load-lock配置

5,，配置干泵+分子泵，可達(dá)高真空,，適用高品質(zhì)薄膜沉積,。

6， 可做直流濺射,，射頻濺射,，100W射頻偏壓（用于襯底表面清洗）

性能價(jià)格比高！,！