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3英寸,、4英寸、6英寸,、8英寸真空快速退火爐系統(tǒng),。
應(yīng)用：
RTA（快速熱退火）； RTO（快速熱氧化）,；注入退火,；擴(kuò)散；化合物半導(dǎo)體退火,；滲氮,；滲硅； 結(jié)晶化與致密化,；
特點：
適用于2英寸~8英寸晶圓,，高可靠性和低擁有成本,。不銹鋼冷壁腔體技術(shù)； 高工藝重復(fù)性,，超清潔無污染環(huán)境,、 高冷卻速率低記憶效果。 可實現(xiàn)高達(dá)10-6 mbar的高真空環(huán)境,。 高溫計和熱電偶控制,，高速數(shù)字PID溫度控制器，邊緣高溫計視點保障了化合物半導(dǎo)體和小樣品的基座的加強溫度控制,。
使用特點：
溫度范圍：RT to 1000°C,；
斜坡速率：**250°C/s；
氣體混合功能：使用質(zhì)量流量控制器控制,；
真空范圍：大氣壓～10-6 Torr,，可配置分子泵；
本系統(tǒng)提供全電腦控制,，應(yīng)用控制軟件兼容window系統(tǒng),。
暫無數(shù)據(jù)！
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