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儀器簡介：

該系統(tǒng)中的PECVD可以沉積高質(zhì)量SiO2薄膜,、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜,、硬質(zhì)薄膜,、光學(xué)薄膜等。標(biāo)準(zhǔn)配置射頻(RF),，可選用空陰極高密度等離子體(HCD)源,、感應(yīng)耦合等離子體（ICP）源。**沉積尺寸為8英寸,。

使用花傘式的陰極射頻等離子源,，壓盤可由射頻或脈沖直流控制,，電阻加熱，循環(huán)水冷,。標(biāo)準(zhǔn)配置由一路載氣和兩路反應(yīng)氣組成,，也可以選配流量計。

設(shè)備規(guī)格：

計算機控制的高品質(zhì)沉積設(shè)備,；

射頻花傘噴淋頭等離子源,；

**可沉積8英寸直徑的薄膜；

RF偏壓基底夾具,；

水冷平臺(water cooled platen),；

一路載氣和兩路反應(yīng)氣通過流量計控制流量；

分子渦輪泵,；

基本真空度10-7 Torr,，200L/sec渦輪分子泵；

空氣控制閥,；

技術(shù)參數(shù)：

PECVD參數(shù)：

平板尺寸(Platen size) 8英寸

源直徑(Source diameter) 8英寸

氣路數(shù)(No. of gas feeds) 4(2反應(yīng)氣,，1載氣，1排氣)

源到平板距離(Source to platen distance) 2英寸或可以調(diào)節(jié)

**平板溫度(Max. platen temp.) 400℃

射頻電源(RF power supply source) 600瓦,，13.5 MHz

射頻偏置(RF bias) 300瓦,，13.5 MHz

RIE參數(shù)：

電腦控制，全能自鎖

電極： 8”

電極冷卻: 水冷

流量計MFC數(shù)量: 標(biāo)配4個

RIE腔體：鋁制,，13”直徑大小

工作壓力： 0.02-500 mTorr,， 動態(tài)壓力控制

射頻電源： 13.5 MHz， 600 W ,，帶自動調(diào)頻,，

真空度 : 10-7 Torr 以上，配渦淪分子泵,， Baratron and WR 真空規(guī)

N2 吹掃: 整個腔體和氣路

氣體分散: 噴淋頭式

硅片裝載Wafer Load: 手動,，氣動式掀蓋放置

等離子體源Plasma Sources: 臺板射頻偏壓，可以產(chǎn)生-400V 偏壓

主要特點：

柜式PECVD/ RIE系統(tǒng),，電腦Lab View軟件控制

PECVD 等離子體源：平面噴淋頭射頻電極產(chǎn)生離子源

流量控制 :4個流量計（MFC） (針對 PECVD： NH3,， 2%SiH4/Ar， O2,， 和 N2O)

PECVD樣品臺Platen : 8”不繡鋼,，可加熱至300C，水冷,，溫度可控，可配射頻偏壓 （選配）

PECVD沉積腔尺寸 : 14” x 14” x 14” ,，不繡鋼,。真空度要求 5 x 10 - 7 Torr 以上

PECVD沉積腔前門可視窗口（5“直徑）,，手動門（8”直徑），和10“法蘭,，硅片在開門后手動放置

RIE腔體尺寸： 13” 直徑,，鋁材質(zhì)，掀蓋式放置,，氣動式開門,， 工作壓力 : 0.02 to 1 Torr

鋁質(zhì)射頻臺，**至8”硅片,，水冷,，（冷卻器未包括，需要用戶提供）

噴淋頭式氣體分散

配加熱工作時使用Baratron真空計(用于RIE)和BOC Edwards 寬頻真空計(用于RIE & PECVD)

3個流量計（MFC）,，用于RIE(C2,，BCl3，and N2) 全自動過程壓力控制

VCR接頭和 Nupro閥門 ,， 氮氣線吹掃,，電腦控制質(zhì)量流動控制器（MFC）

德國普發(fā)公司TPH261PC型200L/sec耐腐蝕渦輪分子泵和BOC公司RV12式機械泵組合使用

射頻供電： 600 W，13.5MHz 帶自動調(diào)頻,。接入電源 220 V,， 3PVAC， 20 Amp/Phase,， 50/60 Hz,，