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勻膠顯影機(英文名：Developing)

產地：美國

一、產品概述：

650型勻膠顯影機適應于半導體,、化工材料,、硅片、晶片,、基片,、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影,。一般勻膠顯影機由動力系統(tǒng),、顯影液槽及噴液管、水洗槽,、擠壓 (水)輥,、涂膠槽等部分組成。

二,、勻膠顯影機工作原理：

顯影系統(tǒng)具有可編程閥,，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應用的要求重復進行,，如沖洗（通常是去離子水或溶劑）,，然后干燥（通常是氮氣）等*后的處理步驟。采用此序貫閥門技術的晶圓片和管道在完全干燥的環(huán)境中開通和關閉處理過程,。隔離和獨立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內調節(jié),。勻膠顯影機還有可選擇的動態(tài)線性或徑向滴膠的特性。

三,、勻膠顯影機主要性能指標：

1,、腔體尺寸：12.5英寸 (318 毫米)；

2,、Wafer&芯片：直徑12英寸（300毫米）的晶圓片或者9x9英寸（175毫米）的方片,；

3、非真空托盤：聚丙烯材質非真空托盤,，可承載2,、3英寸及300毫米的晶圓片-并帶有背面清洗功能；

3,、轉動速度：0-12,，000rpm，

5,、馬達旋涂轉速：穩(wěn)定性能誤差 < ±1%,；

6,、工藝時間設定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度；

7,、高精度數(shù)碼控制器：PLC控制,，設置點精度小于0.006%；

8,、程序控制：可存儲20個程序段,，每個程序段可以設置51步不同的速度狀態(tài)；

9,、分辨率：分辨率小于0.5轉/分,，可重復性小于±0.5轉/分，美國國家標準技術研究院（NIST）認證過的,，并且無需再校準,！]

10、腔體開關蓋板：透明ECTFE材質圓頂蓋板,，便于實時進行可視化操作,；

11、腔體材質說明：用聚丙烯材質制成的帶有聯(lián)動傳感觸點的合瓣式艙體,；

12、配套分析軟件：SPIN3000操作分析軟件,；

13,、配套真空泵系統(tǒng)：無油型 220~240伏交流，50/60赫茲,；

四,、適用工藝（包括但不限于下述濕法制程）

光刻膠顯影（KrF/ArF）

SU8厚膠顯影

顯影后清洗

PostCMP清洗

光罩去膠清洗

光刻膠去除

金屬Lift-off處理

刻蝕微刻蝕處理