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光譜橢偏儀DUV-VIS-NIR

光譜橢偏儀可配置從DUV到NIR的波長范圍,。DUV范圍可用于測量超薄膜,，如納米厚度范圍。比如硅晶片上的原生氧化物,，其通常僅為約1至2nm厚,。當用戶需要測量許多材料的帶隙時，深紫外光譜橢偏儀也是必不可少的,?？梢娀蚪t外范圍用于測量相對厚或非常厚的涂層。當然,，如果必須確定光學常數(shù),，則應(yīng)將工具的波長范圍配置為該范圍。其他配置,，如波長分辨率,，角度范圍等，將根據(jù)所需的應(yīng)用進行考慮,。

光譜橢偏儀特征：

•基于Window軟件,，易于操作；

•先進的光學設(shè)計,，實現(xiàn)zui佳系統(tǒng)性能,；

•高功率DUV-VIS-NIR光源，適用于寬帶應(yīng)用,；

•基于陣列的探測器系統(tǒng),，確保快速測量,；

•用戶可以根據(jù)需要定義任意數(shù)量的圖層,；

•能夠用于實時或在線厚度，折射率監(jiān)測,；

•系統(tǒng)配有全面的光學常數(shù)數(shù)據(jù)庫,；

•高級TFProbe 3.3.X軟件允許用戶對每個膠片使用NK表，色散或有效介質(zhì)近似（EMA）；

•三種不同的用戶級別控制：工程師模式,，系統(tǒng)服務(wù)模式和簡易用戶模式,；

•靈活的工程模式，適用于各種配方設(shè)置和光學模型測試,；

•強大的一鍵式按鈕解決方案,，用于快速和常規(guī)測量；

•可按照用戶偏好配置測量參數(shù),，操作簡便,；

•系統(tǒng)全自動校準和初始化；

•直接從樣品信號獲得精確的樣品對齊接口,，無需外部光學元件,；

•精確的高度和傾斜程度調(diào)整；

•適用于許多不同類型的不同厚度的基材,；

•各種選項,，附件可用于特殊配置，如繪圖階段,，波長擴展,，焦點等；

•2D和3D輸出圖形以及用戶數(shù)據(jù)管理界面,；

光譜橢偏儀應(yīng)用：

•半導體制造（PR,，氧化物，氮化物......）

•液晶顯示器（ITO,，PR,，Cell gap ......）

•法醫(yī)學，生物學材料

•油墨,，礦物學,，顏料，調(diào)色劑

•制藥,，醫(yī)療器械

•光學涂層,，TiO2，SiO2,，Ta2O5 ......

•半導體化合物

•MEMS / MOEMS中的功能薄膜

•無定形,，納米和硅晶圓

•太陽能電池薄膜，CdTe,，CdS,，CIGS，AZO,，CZTS ....

光譜橢偏儀技術(shù)參數(shù)：

其他型號：

紅外光譜橢偏儀TFProbe IRSE

光譜橢偏儀顯微分光光度計 SE-MSP

光譜橢偏儀 SE-SOLAR太陽能光伏

光譜橢偏儀帶自動監(jiān)測 SE200BM,，SE300BM和SE500BM

顯微分光光度計DUV-VIS-NIR MSP100/MSP300/MSP400/MSP450/MSP500