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真空快速退火爐AS-One

AS-One是一種通用的RTP系統(tǒng)，可用于開發(fā)快速熱退火和快速熱CVD工藝。

可以搭配分子泵實(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝,。

**溫度1500 ℃,，*快升溫速率200℃/Second。

全程PC軟件控制升溫程序,，保證溫度不過(guò)沖,，控溫精度準(zhǔn)確。

應(yīng)用：

•RTA（快速熱退火）

•RTO（快速熱氧化）

•歐姆接觸退火

•植入退火

•石墨烯和hBN的快速熱化學(xué)氣相沉積RTCVD

•硒化,，硫化

•結(jié)晶和致密化

產(chǎn)品特點(diǎn)：

1,、紅外鹵素?zé)艄芗訜幔鋮s采用風(fēng)冷（低噪音水平,，無(wú)需壓縮空氣）,；

2、加熱由功率控制而非電壓控制,，避免了由于燈絲老化電阻改變導(dǎo)致的后續(xù)使用中加熱不均的問(wèn)題,，保證了良好的重現(xiàn)性及均溫性，即使在后續(xù)使用過(guò)程中更換了部分新的燈管也可以達(dá)到*初的熱處理效果,；

3,、石英腔體，腔體冷卻采用水冷,，冷壁設(shè)計(jì),，雙層不銹鋼；

冷壁水冷技術(shù)優(yōu)點(diǎn)在于：1,、無(wú)記憶,，2、工藝重復(fù)性高,，3,、冷卻速度快；

4,、反應(yīng)腔室的設(shè)計(jì),，氣體的進(jìn)入口設(shè)計(jì)在wafer的表面，避免在退火過(guò)程中冷點(diǎn)的產(chǎn)生,。很好的保證了樣品在加熱過(guò)程中的均溫性,；

5、快速數(shù)字PID控溫,；

6,、熱電偶配合高溫計(jì)控溫，測(cè)試樣品的溫度,，控溫精準(zhǔn),；

7,、大氣和真空工藝均適合，凈化氣體配針閥,；

8,、*多5路工藝氣體，配數(shù)字質(zhì)量流量控制器,；

9,、電腦通過(guò)以太網(wǎng)連接更快的數(shù)據(jù)傳輸速度；

10,、可選配石墨托盤表面涂SiC薄膜設(shè)計(jì),，用于小樣品測(cè)試；

11,、可選配分子泵,，用于高真空測(cè)試；

產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)配置及規(guī)格參數(shù)：

1,、樣品**尺寸：AS-One100：4-inch,；AS-One150 ：6-inch；

2,、溫度范圍：AS-One100室溫~1250 ℃,；（室溫~1500 ℃可選）

AS-One150室溫~1200 ℃；（室溫~1300 ℃可選）

3,、升溫速率：AS-One100 ：0.1 ℃~250 ℃/s ；

AS-One150 ：0.1 ℃~200 ℃/s ,；

4,、溫度控制：快速數(shù)字PID控制；

5,、熱電偶：2個(gè)K型熱電偶,；

6、低溫高溫計(jì)溫度范圍：150℃~1100 ℃,；

7,、高溫高溫計(jì)溫度范圍：400℃~1500 ℃；

8,、工藝氣體氣路配質(zhì)量流量計(jì),；

9、配置真空泵及真空規(guī),；