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勻膠顯影機(jī)(英文名：Developing)

產(chǎn)地：美國(guó)

一,、產(chǎn)品概述：

650型勻膠顯影機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料,、硅片,、晶片、基片,、導(dǎo)電玻璃等工藝,，制版的表面顯影,。一般勻膠顯影機(jī)由動(dòng)力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管,、水洗槽,、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部分組成,。

二,、勻膠顯影機(jī)工作原理：

顯影系統(tǒng)具有可編程閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻,、顯影和清洗應(yīng)用的要求重復(fù)進(jìn)行,，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然后干燥（通常是氮?dú)猓┑?后的處理步驟,。采用此序貫閥門(mén)技術(shù)的晶圓片和管道在完全干燥的環(huán)境中開(kāi)通和關(guān)閉處理過(guò)程,。隔離和獨(dú)立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內(nèi)調(diào)節(jié)。勻膠顯影機(jī)還有可選擇的動(dòng)態(tài)線性或徑向滴膠的特性,。

三,、勻膠顯影機(jī)主要性能指標(biāo)：

1、腔體尺寸：9.5英寸 (241 毫米),；

2,、Wafer&芯片：直徑6英寸（150毫米）的晶圓片或者5x5英寸（125毫米）的方片；

3,、非真空托盤(pán)：聚丙烯材質(zhì)非真空托盤(pán),，可承載2、3英寸及150毫米的晶圓片-并帶有背面清洗功能,；

3,、轉(zhuǎn)動(dòng)速度：0-12，000rpm,，

5,、馬達(dá)旋涂轉(zhuǎn)速：穩(wěn)定性能誤差 < ±1%；

6,、工藝時(shí)間設(shè)定：1-5999.9 sec/step 0.1 精度,；

7、高精度數(shù)碼控制器：PLC控制,，設(shè)置點(diǎn)精度小于0.006%,；

8、程序控制：可存儲(chǔ)20個(gè)程序段,，每個(gè)程序段可以設(shè)置51步不同的速度狀態(tài),；

9、分辨率：分辨率小于0.5轉(zhuǎn)/分，可重復(fù)性小于±0.5轉(zhuǎn)/分,，美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究院（NIST）認(rèn)證過(guò)的,，并且無(wú)需再校準(zhǔn)！]

10,、腔體開(kāi)關(guān)蓋板：透明ECTFE材質(zhì)圓頂蓋板,，便于實(shí)時(shí)進(jìn)行可視化操作；

11,、腔體材質(zhì)說(shuō)明：用聚丙烯材質(zhì)制成的帶有聯(lián)動(dòng)傳感觸點(diǎn)的合瓣式艙體,；

12、配套分析軟件：SPIN3000操作分析軟件,；

13,、配套真空泵系統(tǒng)：無(wú)油型 220~240伏交流，50/60赫茲,；

四,、適用工藝（包括但不限于下述濕法制程）

光刻膠顯影（KrF/ArF）

SU8厚膠顯影

顯影后清洗

PostCMP清洗

光罩去膠清洗

光刻膠去除

金屬Lift-off處理

刻蝕微刻蝕處理