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磁控濺射技術(shù)
GSC-1000磁控濺射系統(tǒng)概述：
帶有水冷或者加熱(**可加熱到700度)功能，**到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái),，**可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管,。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr,，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空,。通過(guò)調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度,。
GSC-1000帶有10"派熱克鐘罩腔體,，2個(gè)2"的磁控管，DC直流電源用于濺射金屬,，并帶有膜厚監(jiān)測(cè)儀(選配),。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
不銹鋼，鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
70l/s的渦輪分子泵,，串接機(jī)械泵或干泵
1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門(mén)易于上下載片
基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)控制
帶密碼保護(hù)功能的多級(jí)訪問(wèn)控制
完全的安全聯(lián)鎖功能
| 選配項(xiàng)： Thickness Monitor 膜厚監(jiān)測(cè) | |
應(yīng) 用：
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