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真空回流焊
真空回流焊

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德國

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German First-Nano System 德國韋氏納米

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真空回流焊

Specifications

Process environmentnitrogen,, inert gas,, formic acid, forming gas
Maximum temperature450°C
Heating area420 x 420 mm
Heating plateremovable: graphite,, aluminum,, etc.
Clearance above heating plate60 mm
Heat up / cool down ramp250°C/min
Control deviation+/- 0.5°C
Heating elements16x infrared heating lamps in two crossed rows
Heating controlindividual/adjustable on every heating lamp
Cooling of heating platenitrogen flow
Temperature measurementup to 4x thermocouples K-Type freely positional
Pressure measurementfull range over two gauges
Maximum vacuum1x10-2 mbar (5x10-6 mbar with turbo pump)
Formic acid bubbler40 ml container in front panel with auto refill
Cooling of chamber bodywater/ethylene glycol mixture
Lid viewing port80 mm with shutter
Display7" LCD with touch screen
PC Softwareprocess logging,, recipe transfer, etc.
User interfaceremote control over relay I/Os
Dimensionssee layout
Weight280 kg
Power supply3 phase,, country specific

**客戶

應(yīng)用:

在真空和惰性氣體中加熱,、散熱器上的功率半導(dǎo)體、倒裝芯片回流焊,、凸點(diǎn)熔化,、高強(qiáng)度LED連接、密封封裝密封,、光伏電池組件,、模具連接、印刷銅膜燒結(jié),、混合電路組件,、扁平封裝封裝、微機(jī)電系統(tǒng)和光電器件封裝,,汽車傳感器,、高能電池等。

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10分

易用性

10分

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