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標(biāo)準(zhǔn)型涂膠顯影機(jī)品牌
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主要特點(diǎn)：
設(shè)備特點(diǎn)：
1、占地小,、穩(wěn)定性高,、操作與維護(hù)方便
2、可廣泛用于硅,， 碳化硅,， 氮化鎵，砷化鎵,，玻璃等材料的涂膠顯影工藝
3,、可覆蓋0.35um以上工藝需求，滿足2~6寸晶圓需求,，可涂覆3~20000CP光刻膠
4,、控制精度高，實(shí)時(shí)控制解決方案,，Ether CAT 通訊,，高精度擺臂及傳輸機(jī)構(gòu)
5、自主可控的技術(shù)方案,，自主開發(fā)的軟件系統(tǒng),，充分滿足定制化要求
主要參數(shù):
| 主要參數(shù) | 片盒數(shù)量 | 2&3CS |
wafer 類型 | 圓片、方片 | |
| wafer 尺寸（mm） | 50-150 | |
| 產(chǎn)能（WPH） | 110 | |
| 襯底材料 | Si,、Glass,、Sapphire、GaN,、GaAs,、SiC、LiTaO3,、Li3PO4 | |
| 適用工藝 | g-line,、i- line、PI |
設(shè)備特點(diǎn)：
1,、占地小,、穩(wěn)定性高、操作與維護(hù)方便
2,、可廣泛用于硅,， 碳化硅， 氮化鎵,，砷化鎵,，玻璃等材料的涂膠顯影工藝
3、可覆蓋0.35um以上工藝需求,，滿足2~6寸晶圓需求,，可涂覆3~20000CP光刻膠
4,、控制精度高，實(shí)時(shí)控制解決方案,，Ether CAT 通訊,，高精度擺臂及傳輸機(jī)構(gòu)
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