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磁控濺射沉積設(shè)備品牌
電子科技產(chǎn)地
湖南樣本
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磁控濺射設(shè)備是一種多功能、高效率的鍍膜設(shè)備,。可以在陶瓷,、玻璃,、石英,、硅片等基底材料上濺鍍金屬、非金屬,、氧化物,、介質(zhì)等材料的薄膜,如: Au、Al,、NiCr,、TiW、Si,、Al2O3 ,、Si3N4、ZnO,、ITO等,。濺鍍膜層均勻、致密,、附著力強(qiáng),,可應(yīng)用到新型電子材料制備及光學(xué)、太陽能,、 半導(dǎo)體等領(lǐng)域,。
load-lock采用機(jī)械手運(yùn)送基片,上料室預(yù)抽真空,,保證濺射室良好的真空環(huán)境,,實(shí)現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn);
濺射靶角度可調(diào),;
可沉積單層,、多層薄膜、合金薄膜和摻雜薄膜,;
濺射靶之間采用特殊結(jié)構(gòu)相互隔離,,避免靶材之間交叉污染;
可選配輔助清洗離子源,,有效提高薄膜的附著力,;
電源配置可選:直流、射頻,、直流脈沖,、直流偏壓、射頻偏壓,;
基片臺可加熱,,通過工藝控制可制備單晶薄膜;
-靶材尺寸: Φ50mm、Φ75mm,、Φ100mm,、Φ125mm、Φ150mm
-靶材數(shù)量:2-4個
-基片尺寸:2-8英寸
-基片臺轉(zhuǎn)速:5-30rpm,,轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)
-基片臺加熱:室溫-400℃,,控溫精度±1%
-沉膜不均勻性: ±3% ~ ±5%
-真空系統(tǒng):分子泵系統(tǒng)/低溫泵系統(tǒng)
暫無數(shù)據(jù)!