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磁控濺射設備是一種多功能,、高效率的鍍膜設備?？梢栽谔沾?、玻璃、石英,、硅片等基底材料上濺鍍金屬,、非金屬、氧化物,、介質(zhì)等材料的薄膜,如: Au,、Al、NiCr,、TiW,、Si、Al2O3 ,、Si3N4,、ZnO、ITO等,。濺鍍膜層均勻,、致密、附著力強,，可應用到新型電子材料制備及光學,、太陽能、 半導體等領域,。

load-lock采用機械手運送基片,，上料室預抽真空，保證濺射室良好的真空環(huán)境,，實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn),；
　　濺射靶角度可調(diào)；
　　可沉積單層,、多層薄膜,、合金薄膜和摻雜薄膜；
　　濺射靶之間采用特殊結構相互隔離，避免靶材之間交叉污染,；
　　可選配輔助清洗離子源,，有效提高薄膜的附著力；
　　電源配置可選：直流,、射頻,、直流脈沖、直流偏壓,、射頻偏壓,；
　　基片臺可加熱，通過工藝控制可制備單晶薄膜,；

-靶材尺寸： Φ50mm,、Φ75mm、Φ100mm,、Φ125mm,、Φ150mm
　　-靶材數(shù)量：2-4個
　　-基片尺寸：2-8英寸
　　-基片臺轉速：5-30rpm，轉速連續(xù)可調(diào)
　　-基片臺加熱：室溫-400℃,，控溫精度±1%
　　-沉膜不均勻性： ±3% ～ ±5%
　　-真空系統(tǒng)：分子泵系統(tǒng)/低溫泵系統(tǒng)