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M82200-10UM型PECVD 鍍膜設(shè)備
M82200-10UM型PECVD 鍍膜設(shè)備

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

M82200-10UM型PECVD 鍍膜設(shè)備

品牌

電子科技

產(chǎn)地

湖南

樣本

暫無(wú)
中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所

高級(jí)會(huì)員

|

第1年

|

生產(chǎn)商

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PECVD鍍膜設(shè)備采用直接式等離子體沉積方式,,可生產(chǎn)出質(zhì)量**的晶體硅太陽(yáng)能電池減反射膜,,是業(yè)內(nèi)管徑、單管產(chǎn)能**的管式鍍膜設(shè)備,。

單臺(tái)(5管)產(chǎn)能≥3600片/小時(shí)(單管裝片416片/批),;

沉膜均勻性好,膜厚均勻性指標(biāo)可達(dá):片內(nèi)≤3%,、片間≤3%,、批間≤3%;

350~580℃控溫范圍,,同時(shí)滿足沉積氮化硅膜和退火工藝要求,;

采用全套倍福控制系統(tǒng),,自動(dòng)化程度高( 提供MES接口,、遠(yuǎn)程監(jiān)控等功能);

全自動(dòng)上下舟系統(tǒng),,一鍵全自動(dòng)工藝和完善的保護(hù)報(bào)警功能,;

送料機(jī)構(gòu)強(qiáng)度、精度,、速度,、穩(wěn)定性大幅優(yōu)于同類產(chǎn)品。

基本參數(shù)

成膜種類

氮化硅

裝片量與產(chǎn)能

416 片/批(156x156mm 方片),,單臺(tái)5管產(chǎn)能≥3600/小時(shí),;

在線時(shí)間

98%

設(shè)備功率

峰值功率280KW,,平均功率≤70KW,;

設(shè)備尺寸

7400mm(不含真空泵)×2110mm×3530mmL×W×H);

成膜質(zhì)量參數(shù)

成膜均勻性

片內(nèi)≤4%,、片間≤3%,、批間≤3%(膜厚80120nm);

折射率均勻性

片內(nèi)≤1.5%,、片間≤1.5%,、批間≤1.5%(折射率22.2);

溫控系統(tǒng)參數(shù)

恒溫區(qū)長(zhǎng)度及精度

≤±1/1600mm 450℃時(shí)),;

溫度控制范圍

200~580℃,;

溫度控制方式

五段雙回路溫度控制;

真空系統(tǒng)參數(shù)

壓力控制

高精度VAT閥控制,,控壓范圍220±40Pa,;

石墨舟傳輸系統(tǒng)參數(shù)

石墨舟上料方式

全自動(dòng)機(jī)械手上下舟,在線式/離線式對(duì)接插片機(jī)可選,;

控制系統(tǒng)參數(shù)

推舟機(jī)構(gòu)

水平速度1~12000mm/min可調(diào),,垂直速度1~150mm/min可調(diào),承重≥40KG,;

控制方式

高性能工控計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制工藝過(guò)程,,并對(duì)工藝參數(shù)和工藝流程實(shí)時(shí)監(jiān)控;

基本參數(shù)

在線時(shí)間

98%,;

設(shè)備功率

峰值功率280KW,,平均功率≤70KW,;

設(shè)備尺寸

7400mm(不含真空泵)×2110mm×3530mmL×W×H);


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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
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