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設(shè)備主要用于高效晶硅體太陽(yáng)能電池制造工藝中HJT電池片正面和背面IOT薄膜的沉積,。
膜塊化設(shè)計(jì),，便于安裝以及產(chǎn)能升級(jí);
滿足不同溫度沉積ITO薄膜，工藝擴(kuò)展性強(qiáng);強(qiáng)控旋轉(zhuǎn)陰極靶快速鍍膜技術(shù),，靶材利用率高;
分區(qū)加熱和控溫,，具有出色的控溫系統(tǒng)和控溫性能。
暫無數(shù)據(jù),！
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