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filmetrics臺(tái)式膜厚測(cè)試儀F20
filmetrics臺(tái)式膜厚測(cè)試儀F20

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美國(guó)Filmetrics光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x,測(cè)量膜層厚度從15nm到450um,。利用反射干涉的原理進(jìn)行無(wú)接觸測(cè)量,,可測(cè)量薄膜厚度及光學(xué)常數(shù)。測(cè)量精度達(dá)到埃級(jí)的分辯率,,測(cè)量迅速,,操作簡(jiǎn)單,界面友好,,是一款高性價(jià)比的膜厚測(cè)量?jī)x設(shè)備,。設(shè)備光譜測(cè)量范圍從近紅外到紫外線,波長(zhǎng)范圍從200nm到1700nm可選,。凡是光滑的,,透明或半透明的和所有半導(dǎo)體膜層都可以測(cè)量。

Filmetrics光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x:

其可測(cè)量薄膜厚度在15nm到450um之間,,測(cè)量精度高達(dá)1埃,,測(cè)量穩(wěn)定性高達(dá)0.7埃,,測(cè)量時(shí)間只需一到二秒, 并有手動(dòng)及自動(dòng)機(jī)型可選,??蓱?yīng)用領(lǐng)域包括:生物醫(yī)學(xué)(Biomedical),, 液晶顯示(Displays),, 硬涂層(Hard coats), 金屬膜(Metal),, 眼鏡涂層(Ophthalmic) ,, 聚對(duì)二甲笨(Parylene), 電路板(PCBs&PWBs),, 多孔硅(Porous Silicon),, 光阻材料(Thick Resist),半導(dǎo)體材料(Semiconductors) ,, 太陽(yáng)光伏(Solar photovoltaics),, 真空鍍層(Vacuum Coatings), 圈筒檢查(Web inspection applications)等,。

通過(guò)Filmetrics膜厚測(cè)量?jī)x反射式光譜測(cè)量技術(shù),,可以測(cè)試4層透明薄膜厚度、 n,、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測(cè)得,。其應(yīng)用廣泛,例如 :

半導(dǎo)體工業(yè) : 光阻,、氧化物,、氮化物。

LCD工業(yè) : 間距 (cell gaps),,ito電極,、polyimide 保護(hù)膜。

光電鍍膜應(yīng)用 : 硬化鍍膜,、抗反射鍍膜,、過(guò)濾片。

極易操作,、快速,、準(zhǔn)確、機(jī)身輕巧及價(jià)格便宜為其主要優(yōu)點(diǎn),,在此基礎(chǔ)之上,,我們推出了

操作極其簡(jiǎn)單的入門型號(hào)F20單點(diǎn)膜厚測(cè)試儀,可以實(shí)現(xiàn)反射,、膜厚,、n,、k值測(cè)量。

F20 系列膜厚測(cè)試儀——一款暢銷的臺(tái)式薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)

只需按下一個(gè)按鈕,,您在幾秒鐘同時(shí)測(cè)量厚度和折射率,。設(shè)置同樣簡(jiǎn)單, 只需插上設(shè)備到您運(yùn)行Windows™系統(tǒng)計(jì)算機(jī)的USB端口,, 并連接樣品平臺(tái) ,, F20已在世界各地有成千上萬(wàn)的應(yīng)用被使用. 事實(shí)上,我們每天從我們的客戶學(xué)習(xí)更多的應(yīng)用.

選擇您的F20,,主要取決于您需要測(cè)量的薄膜的厚度(確定所需的波長(zhǎng)范圍),,下圖是不同型號(hào)的膜厚測(cè)試儀測(cè)試的厚度范圍以及對(duì)應(yīng)選擇的波長(zhǎng)范圍。

F20 的測(cè)試原理:

一束光入射到薄膜表面時(shí),,在薄膜上下表面都會(huì)發(fā)生反射,,而兩束反射光之間會(huì)產(chǎn)生干涉,干涉條紋的產(chǎn)生又是與薄膜的厚度,,折射率等有關(guān)的,,因此可以依據(jù)此來(lái)測(cè)量薄膜的厚度。

F20系列膜厚測(cè)試儀的具體的應(yīng)用實(shí)例:

1.非晶態(tài)多晶硅

硅元素以非晶和晶體兩種形式存在,, 在兩級(jí)之間是部分結(jié)晶硅,。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。

非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對(duì)不同沉積條件是獨(dú)特的,,必須有精確的厚度測(cè)量,。 測(cè)量厚度時(shí)還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風(fēng)化。

Filmetrics 設(shè)備提供的復(fù)雜的測(cè)量程序同時(shí)測(cè)量和輸出每個(gè)要求的硅薄膜參數(shù),, 并且“一鍵”出結(jié)果,。

測(cè)量范例

多晶硅被廣泛用于以硅為基礎(chǔ)的電子設(shè)備中。這些設(shè)備的效率取決于薄膜的光學(xué)和結(jié)構(gòu)特性,。隨著沉積和退火條件的改變,,這些特性隨之改變,所以準(zhǔn)確地測(cè)量這些參數(shù)非常重要,。監(jiān)控晶圓硅基底和多晶硅之間,,加入二氧化硅層,以增加光學(xué)對(duì)比,,其薄膜厚度和光學(xué)特性均可測(cè)得,。F20可以很容易地測(cè)量多晶硅薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù),以及二氧化硅夾層厚度,。Bruggeman光學(xué)模型被用來(lái)測(cè)量多晶硅薄膜光學(xué)特性,。

2.電介質(zhì)

電解質(zhì)薄膜測(cè)量

成千上萬(wàn)的電解質(zhì)薄膜被用于光學(xué),半導(dǎo)體,以及其它數(shù)十個(gè)行業(yè),, 而Filmetrics的儀器幾乎可以測(cè)量所有的薄膜,。常見(jiàn)的電介質(zhì)有:

二氧化硅 —— *簡(jiǎn)單的材料之一, 主要是因?yàn)樗诖蟛糠止庾V上的無(wú)吸收性 (k=0),, 而且非常接近化學(xué)計(jì)量 (就是說(shuō),,硅:氧非常接近 1:2)。 受熱生長(zhǎng)的二氧化硅對(duì)光譜反應(yīng)規(guī)范,,通常被用來(lái)做厚度和折射率標(biāo)準(zhǔn),。 Filmetrics能測(cè)量3nm到1mm的二氧化硅厚度。

氮化硅——對(duì)此薄膜的測(cè)量比很多電介質(zhì)困難,,因?yàn)楣瑁旱嚷释ǔ2皇?:4,, 而且折射率一般要與薄膜厚度同時(shí)測(cè)量。 更麻煩的是,,氧常常滲入薄膜,生成一定程度的氮氧化硅,,增大測(cè)量難度,。 但是幸運(yùn)的是,我們的系統(tǒng)能在幾秒鐘內(nèi) “一鍵” 測(cè)量氮化硅薄膜完整特征!

測(cè)量范例

氮化硅薄膜作為電介質(zhì),,鈍化層,,或掩膜材料被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。這個(gè)案例中,,我們用F20-UVX成功地測(cè)量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度,,折射率,和消光系數(shù),。有趣的事,,氮化硅薄膜的光學(xué)性質(zhì)與薄膜的分子當(dāng)量緊密相關(guān)。使用Filmetrics專有的氮化硅擴(kuò)散模型,,F(xiàn)20-UVX可以很容易地測(cè)量氮化硅薄膜的厚度和光學(xué)性質(zhì),,不管他們是富硅,貧硅,,還是分子當(dāng)量,。

3.銦錫氧化物與透明導(dǎo)電氧化物

液晶顯示器,有機(jī)發(fā)光二極管變異體,,以及絕大多數(shù)平面顯示器技術(shù)都依靠透明導(dǎo)電氧化物 (TCO) 來(lái)傳輸電流,,并作每個(gè)發(fā)光元素的陽(yáng)極。 和任何薄膜工藝一樣,,了解組成顯示器各層物質(zhì)的厚度至關(guān)重要,。 對(duì)于液晶顯示器而言,就需要有測(cè)量聚酰亞胺和液晶層厚度的方法,,對(duì)有機(jī)發(fā)光二極管而言,,則需要測(cè)量發(fā)光,、電注入和封裝層的厚度。

在測(cè)量任何多個(gè)層次的時(shí)候,,諸如光譜反射率和橢偏儀之類的光學(xué)技術(shù)需要測(cè)量或建模估算每一個(gè)層次的厚度和光學(xué)常數(shù) (反射率和 k 值),。

不幸的是,使得氧化銦錫和其他透明導(dǎo)電氧化物在顯示器有用的特性,,同樣使這些薄膜層難以測(cè)量和建模,,從而使測(cè)量在它們之上的任何物質(zhì)變得困難。

Filmetrics 的氧化銦錫解決方案

Filmetrics 已經(jīng)開(kāi)發(fā)出簡(jiǎn)便易行而經(jīng)濟(jì)有效的方法,,利用光譜反射率精確測(cè)量氧化銦錫,。 將新型的氧化銦錫模式和 F20-EXR, 很寬的 400-1700nm 波長(zhǎng)相結(jié)合,,從而實(shí)現(xiàn)氧化銦錫可靠的“一鍵”分析,。 氧化銦錫層的特性一旦得到確定,剩余顯示層分析的關(guān)鍵就解決了,。

不管您參與對(duì)顯示器的基礎(chǔ)研究還是制造,,Filmetrics 都能夠提供您所需要的...

測(cè)量液晶層

-聚酰亞胺、硬涂層,、液晶,、間隙

測(cè)量有機(jī)發(fā)光二極管層

發(fā)光、電注入,、緩沖墊,、封裝

對(duì)于空白樣品,我們建議使用 F20 系列儀器,。 對(duì)于圖案片,,F(xiàn)ilmetrics的F40用于測(cè)量薄膜厚度已經(jīng)找到了顯示器應(yīng)用廣泛使用。

測(cè)量范例

此案例中,,我們成功地測(cè)量了藍(lán)寶石和硼硅玻璃基底上銦錫氧化物薄膜厚度,。與Filmetrics專有的ITO擴(kuò)散模型結(jié)合的F10-RTA-EXR儀器,可以很容易地在380納米到1700納米內(nèi)同時(shí)測(cè)量透射率和反射率以確定厚度,,折射率,,消光系數(shù)。由于ITO薄膜在各種基底上不同尋常的的擴(kuò)散,,這個(gè)擴(kuò)展的波長(zhǎng)范圍是必要的,。

4.光刻膠

成功測(cè)量光刻膠要面對(duì)一些獨(dú)特的挑戰(zhàn), 而 Filmetrics 自動(dòng)測(cè)量系統(tǒng)成功地解決這些問(wèn)題,。 這些挑戰(zhàn)包括避免測(cè)量光源直接照射,, 擁有涵蓋廣泛的光刻膠折射率資料庫(kù), 以及有能力處理光刻膠隨烘烤和暴露而改變的折射率。

測(cè)量SU-8其它厚光刻膠的厚度有特別重要的應(yīng)用,。因?yàn)樾?/span> SU-8 的方法雖簡(jiǎn)便快速,,但可能會(huì)導(dǎo)致所需厚度不太精確。 而暴露時(shí)間取決于光刻膠的厚度,, 因此必須進(jìn)行精確測(cè)量,。 另外,由于正負(fù)光刻膠可以同時(shí)用于制造復(fù)雜的多層 MEMS結(jié)構(gòu),, 了解各層的厚度就變得極端重要,。

Filmetrics 提供一系列的和測(cè)繪系統(tǒng)來(lái)測(cè)量 3nm 到 1mm 的單層、 多層,、 以及單獨(dú)的光刻膠薄膜,。 所有的 Filmetrics 型號(hào)都能通過(guò)精確的光譜反射建模來(lái)測(cè)量厚度 (和折射率)。 **的算法使得“一鍵”分析成為可能,,通常在一秒鐘內(nèi)即可得到結(jié)果,。

測(cè)量范例

測(cè)量光刻膠涂層厚度的能力對(duì)開(kāi)發(fā)和制造各種半導(dǎo)體器件如MEMS至關(guān)重要。Filmetrics提供測(cè)量SU-8和其它光刻膠厚度的廣泛的解決方案,。此案例中,,我們演示如何用F20快速有效地測(cè)量硅膠上SU-8 涂層單光斑和多點(diǎn)厚度.

5.硅晶圓薄膜

Filmetrics 提供臺(tái)式系統(tǒng), 測(cè)繪,, 和生產(chǎn)測(cè)量 1nm 到 2mm 硅晶片和膜厚儀器系統(tǒng)。

6.太陽(yáng)光伏應(yīng)用

薄膜光伏

薄膜光伏 (TFPV) 作為硅基晶圓的較廉價(jià)的替代品正在得到開(kāi)發(fā),。 薄膜光伏共有三大類,,按照其有效層組成命名: 硅薄膜、II-VI (主要是銻化鎘) 和 CIGS (銅銦硒化鎵),。 每種有效層薄膜都是用在一層透明導(dǎo)電氧化膜上面,,而基板可用玻璃或金屬。

測(cè)量有效層

準(zhǔn)確了解有效層的厚度和組成是非常重要的,。太薄會(huì)影響功效和耐用性,,而太厚又會(huì)提高成本。錯(cuò)誤的組成會(huì)大大降低產(chǎn)品的功效和制造產(chǎn)量,。

FilmetricsF20型號(hào)為幾十家薄膜光伏制造商所使用,,用于測(cè)量三類有效層的厚度和光學(xué)常數(shù)。 為了測(cè)量透明導(dǎo)電氧化膜上面的有效層薄膜,, Filmetrics 已獲得了豐富的經(jīng)驗(yàn)來(lái)檢測(cè)用戶自行生產(chǎn)的或?qū)I(yè)玻璃生產(chǎn)商提供的單層及多層導(dǎo)電玻璃,。

其他制程薄膜

除了有效層和透明導(dǎo)電氧化物堆以外,還有其他薄膜用于光伏類產(chǎn)品的制造,。這些例子包括用于刻蝕電池和電極的聚酰亞胺和光刻膠,,以及減反涂層。在這些情況下,Filmetrics 有現(xiàn)有的臺(tái)式,, 測(cè)繪,, 或在線解決方案。

測(cè)量范例

快速可靠地測(cè)量多層薄膜是開(kāi)發(fā)制造薄膜太陽(yáng)能電池的關(guān)鍵,。在這個(gè)案例中,,我們需要測(cè)量薄膜光伏上緩沖層(硫化鎘)和吸收層(碲化鎘)的厚度。F20-NIR 結(jié)合準(zhǔn)直光束平臺(tái),,使我們能夠從反射光譜測(cè)量TEC玻璃上太陽(yáng)能電池碲化鎘和硫化鎘層的厚度,。

7.半導(dǎo)體實(shí)踐教學(xué)

已經(jīng)有五十多臺(tái) Filmetrics F20用于大學(xué)半導(dǎo)體制造教學(xué)實(shí)驗(yàn)室。這不僅僅是因?yàn)樗鼈兛焖?、可靠和價(jià)格合理,,還因?yàn)樗鼈兒?jiǎn)明易懂的設(shè)計(jì),使它們成為光譜反射原理教學(xué)的理想平臺(tái),。 (如果您想了解如何在教學(xué)實(shí)驗(yàn)室使用 F20,,用關(guān)鍵字Filmetrics 大學(xué) Google 內(nèi)進(jìn)行搜索)。 同時(shí),,由于全世界有幾千臺(tái) F20 在運(yùn)行,,接受培訓(xùn)的學(xué)生們覺(jué)得培訓(xùn)對(duì)將來(lái)就業(yè)很有用。

Filmetrics 對(duì)用于實(shí)驗(yàn)室課程的儀器提供特別優(yōu)惠,。

8.卷式薄膜涂層

Filmetrics 系統(tǒng)在測(cè)量聚合物薄膜和涂層厚度領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用,,我們還有專門為卷式薄膜設(shè)計(jì)的產(chǎn)品

卷式薄膜應(yīng)用

在塑料薄膜的制造中有很多點(diǎn),它們的厚度對(duì)薄膜質(zhì)量至關(guān)重要,。這些點(diǎn)包括: 薄膜的總厚度 (高達(dá)400um),、混合擠壓分層厚度和涂層在薄膜卷筒上的厚度。 對(duì)于特定 PET 上涂層,,我們的F20-UV 能測(cè)量非常薄的層(~10 nm),, 甚至是高能等離子表面薄膜。 我們標(biāo)準(zhǔn)的 F20 能夠測(cè)量市面上常見(jiàn)的涂層,,例如 0.05 到 50 um 范圍內(nèi)的硬涂層,。

我們有一個(gè)龐大的聚合物薄膜折射率數(shù)據(jù)庫(kù),其中包括 PET,、聚碳酸酯,、醋酸纖維素和聚烯烴,以及更奇特的材料,,諸如導(dǎo)電聚合物,。

這些應(yīng)用中的每一項(xiàng)都是獨(dú)特的挑戰(zhàn),而 Filmetrics 已經(jīng)開(kāi)發(fā)出軟件,、硬件和應(yīng)用知識(shí)以便為用戶提供合適的解決方案,。

測(cè)量范例

用配有200微米小光斑光纖的F20測(cè)量厚度,。在線實(shí)時(shí)和臺(tái)式測(cè)量聚氯乙烯(PVC)擠壓塑料薄膜。臺(tái)式測(cè)量時(shí)SS-3標(biāo)準(zhǔn)平臺(tái)用于單點(diǎn)連續(xù)測(cè)量,。在線測(cè)量時(shí)鏡頭和RKM在卷式薄膜移動(dòng)時(shí)進(jìn)行測(cè)量,。利用我們龐大的折射率數(shù)據(jù)庫(kù),PVC厚度很容易測(cè)得,。F20還可以測(cè)量共擠薄膜厚度,,以及各種材料,如PET涂層厚度,。

9.多孔硅

近年來(lái),,多孔硅研發(fā)工作大量進(jìn)行。眾多興趣的原因是多孔硅在光學(xué)器件,、氣體傳感器和生物醫(yī)療設(shè)備應(yīng)用中**發(fā)展前途,。

和大多數(shù)新的材料技術(shù)一樣,多孔硅開(kāi)發(fā)的部分挑戰(zhàn)就是要找到確定各種材料參數(shù)的工具,。對(duì)于多孔硅而言,,*基本參數(shù)就是薄膜層的厚度和孔隙度。

其它參數(shù)關(guān)系到加工后的薄膜層,,例如浸漬材料的比例或傳感器內(nèi)吸收分子的數(shù)量,。 根據(jù)Filmetrics 已經(jīng)開(kāi)發(fā)出算法,只要單擊鼠標(biāo)就能揭示多孔硅的厚度,、折射率和孔隙度,。 這一算法在F20, F40,, 和 F50 儀器內(nèi)都是免費(fèi)提供的,。

測(cè)量范例

多孔硅的特點(diǎn)可由許多參數(shù)決定,但厚度和孔隙度是*主要的,。一般來(lái)講,非破壞性的方法,,如重力方法被用來(lái)測(cè)量孔隙度,,但這種方法的準(zhǔn)確度非常低。Filmetrics F20,, 用非破壞性的方法,,測(cè)量多孔硅的厚度和光學(xué)特性。Filmetrics專有的算法,,一鍵點(diǎn)擊,,可精確計(jì)算薄膜的孔隙率。

10.制程薄膜

Filmetrics 提供測(cè)量非金屬半導(dǎo)體制程薄膜的全系列產(chǎn)品,。

F20是單點(diǎn)測(cè)量厚度和折射率的*經(jīng)濟(jì)有效的儀器,。

對(duì)于小光斑厚度測(cè)量 (1 微米或更小),,可以將F40固定到您的顯微鏡上。

對(duì)于空白晶圓薄膜厚度測(cè)繪,,可選用經(jīng)濟(jì)有效的F50,。而F80則能測(cè)繪產(chǎn)品晶圓上的薄膜厚度。

我們**的厚度成像技術(shù)使我們的儀器易于設(shè)定,、較少配方,,并且提供更為可靠的模式識(shí)別和比傳統(tǒng)薄膜計(jì)量工具更低的價(jià)格。有獨(dú)立或組合到其它設(shè)備的機(jī)型可供選擇,。

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