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簡(jiǎn)介
Lumina AT1光學(xué)表面缺陷分析儀可對(duì)玻璃,、半導(dǎo)體及光電子材料進(jìn)行表面檢測(cè)。Lumina AT1既能夠檢測(cè)SiC,、GaN,、藍(lán)寶石和玻璃等透明材料,又能對(duì)Si,、砷化鎵,、磷化銦等不透明基板進(jìn)行檢測(cè),其價(jià)格優(yōu)勢(shì)使其成為適合于研發(fā)/小批量生產(chǎn)過(guò)程中品質(zhì)管理及良率改善的有力工具,。
Lumina AT1結(jié)合散射測(cè)量,、橢圓偏光、反射測(cè)量與表面斜率等基本原理,,以非破環(huán)性方式對(duì)Wafer表面的殘留異物,,表面與表面下缺陷,,形狀變化和薄膜厚度的均勻性進(jìn)行檢測(cè),。
1.偏振通道用于薄膜、劃痕和應(yīng)力點(diǎn),;
2.坡度通道用于凹坑,、凸起;
3.反射通道用于粗糙表面的顆粒,;
4.暗場(chǎng)通道用于微粒和劃痕,;
二、功能
l 主要功能
1. 缺陷檢測(cè)與分類(lèi)
2. 缺陷分析
3. 薄膜均一性測(cè)量
4. 表面粗糙度測(cè)量
5. 薄膜應(yīng)力檢測(cè)
l 技術(shù)特點(diǎn)
1.透明,、半透明和不透明的材料均可測(cè)量,,比如硅、化合物半導(dǎo)體或金屬基底,;
2.實(shí)現(xiàn)亞納米的薄膜涂層,、納米顆粒、劃痕,、凹坑,、凸起、應(yīng)力點(diǎn)和其他缺陷的全表面掃描和成像,;
3.150mm晶圓全表面掃描的掃描時(shí)間為3分鐘,,50x50mm樣品30秒內(nèi)可完成掃描并顯示結(jié)果;
4.高抗震性能,,系統(tǒng)不旋轉(zhuǎn),,形狀無(wú)關(guān),可容納非圓形和易碎的基底材料;
5.高達(dá)300x300mm的掃描區(qū)域,;可定位缺陷,,以便進(jìn)一步分析;技術(shù)能力
三,、應(yīng)用案例
1. 透明/非透明材質(zhì)表面缺陷檢測(cè)
2. MOCVD外延生長(zhǎng)成膜缺陷管控
3. PR膜厚均一性評(píng)價(jià)
4. Clean制程清洗效果評(píng)價(jià)
5. Wafer在CMP后表面缺陷分析
6. 多個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域,,如AR/VR、Glass,、光掩模版,、藍(lán)寶石、Si wafer等
暫無(wú)數(shù)據(jù),!