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PMMA(polymethyl methacrylate)是一種非常適合許多成像和非成像微電子應用程序的聚合物材料。通常用于電子束工藝曝光,，如T-gate制造。還用于臨時晶片接合工藝如晶片減薄,，用作保護層和臨時粘合劑,。
PMMA光刻膠是PMMA聚合物被溶解在特定的分子量溶劑中,，如苯甲醚（安全的溶劑）,，然后過濾,。傳統(tǒng)曝光，直接寫曝光或X-射線曝光使聚合物的斷鏈,，從而在光刻膠的曝光和未曝光區(qū)域之間產(chǎn)生溶解度差異,，實現(xiàn)非常高分辨率的圖像。
PMMA的分類：
1）PMMA 495 A系列
2）PMMA 495 C系列
3）PMMA 950 A系列
4）PMMA 950 C系列
PMMA特性：
1）溶劑：苯甲醚（A）和氯苯（C）
2）非常適合于電子束光刻和X射線曝光
3）高分辨率：<0.1um,，PMMA 950適用于高分辨率的應用,，PMMA 495則相對較低
4）廣范圍分子量和粘度
應用：電子束光刻、多層T-Gate剝離,、晶圓減薄等,。
相關溶液：
1）顯影液：MIBK:IPA
2）去膠劑：Remover PG
3）稀釋劑：A Thinner
一般儲存溫度：
10-27℃
暫無數(shù)據(jù)！
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