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無掩模曝光機(jī)
美國IMP（Intelligent Micro Patterning， LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無掩模曝光**技術(shù),，已成為無掩模紫外光刻領(lǐng)域的***,。
產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)：
微米和亞微米光刻 (*小可達(dá)到0.6um線寬)
紫外光直寫曝光，無需掩模,，大幅節(jié)約了掩模加工費(fèi)用
靈活性高,，可直接通過電腦設(shè)計光刻圖形，并可根據(jù)設(shè)計要求隨意調(diào)整,。
可升級開放性系統(tǒng)設(shè)計。
按照客戶要求可從低端到高端自由配置
使用維護(hù)簡單,， 設(shè)備耗材價格低,。
應(yīng)用范圍廣，目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體,、生物芯片,、微機(jī)電系統(tǒng)、傳感器,、微化學(xué),、光學(xué)等領(lǐng)域。
*小線寬可以達(dá)到0.6um量級
暫無數(shù)據(jù),！
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