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Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗,。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學,，05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah， 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji,、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix,。2017年被Veeco收購，并更新了Batch HVM ALD - Firebird,。至今為止,，Veeco在ALD設備已有15年多的經(jīng)驗，全球已安裝五百多臺ALD設備,。
方式: Thermal batch ALD
優(yōu)勢:完全自動化的批量生產(chǎn)系統(tǒng),，*強生產(chǎn)能力（每月*多40000片），成本低，產(chǎn)量高,，極優(yōu)的一致性針對脆弱/溫度敏感的襯底解決方案,，包括LNO/LTO/玻璃模塊化熱管理，以實現(xiàn)*強工藝靈活性和產(chǎn)量
薄膜: 氧化物薄膜,，包含封裝層,、光學涂層氧化物薄膜，包含封裝層,、光學涂層
反應腔體大小: 無縫晶片尺寸轉換能力高達300mm
暫無數(shù)據(jù),！
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