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SU-8 2000及3000系列光刻膠
SU-8 2000及3000系列光刻膠

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美國

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香港電子器材有限公司

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Microchem公司的SU-8 膠是一種負(fù)性,、環(huán)氧樹脂型,、近紫外線光刻膠,它適于制超厚,、高深寬比的MEMS微結(jié)構(gòu),,適合i線,,X-Ray,E-beam曝光,。具有非常好的熱穩(wěn)定性,、抗刻蝕性、高分辨率,、高深寬等特點,。對近紫外350~400nm波段曝光*為敏感。即使在非常厚的光刻膠曝光情況下,,曝光均勻一致,,可得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形。

SU-8 2000系列的特性

1)厚度范圍,,單層涂膠厚度為 0.5 to > 200 μm

2)高深寬比:>10:1

3)更多揮發(fā)性溶劑,,與傳統(tǒng)去邊工藝兼容

4)降低了極性溶劑含量減小表面張力

5)表面活性成分,改善涂覆效果

應(yīng)用:MEMS,,鈍化層應(yīng)用LED微流以及光電子器件制作

SU-8 2000系列的屬性

1)旋轉(zhuǎn)涂層薄膜:<1um to>75um

2)耐高溫,、耐化學(xué)性

3)光學(xué)透明

4)與i-line成像設(shè)備兼容

SU-8 3000系列的特性

1)膜厚5-120 um

2)高深寬比:>5:1

3)常用于**性結(jié)構(gòu)制作,較SU-8 2000具有更好的基底粘附力,,更不易于在工藝過程中產(chǎn)生內(nèi)應(yīng) 力積累

應(yīng)用:光電器件,、微流體、MEMS芯片制作以及作為芯片絕緣,、保護層使用

相關(guān)溶液:

稀釋劑:SU-8 Thiner

顯影液:SU-8 Developer

去膠液:Remover PG

增附劑:OmniCoat

一般儲存溫度:

4-21°C

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10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價比

10分
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