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韓國樣本
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**,、產(chǎn)品簡介:
韓國CTS公司的AIP300型CMP拋光機(jī)是一款12寸工業(yè)級CMP系統(tǒng),,可兼容4寸,6寸,,8寸,,12寸樣品,可用于工廠及小批量量產(chǎn),。
第二,、產(chǎn)品主要特色:
1、CMP拋光頭:采用氣囊加載模式,,5區(qū)壓力獨(dú)立控制,,可得到良好的工業(yè)級拋光效果;
2,、自動上下片,,自動拋光,干進(jìn)干出,;
3,、拋光墊修整器:擺臂式設(shè)計,由13個傳感器分別控制13個區(qū)域的下壓力,,可保證拋光墊高水平修整,;
4,、拋光墊修整器:具有在線修整與離線修整兩種模式;
5,,工藝數(shù)據(jù)可實(shí)時監(jiān)測,;
6、可存儲多個Recipe,;
7,、帶兩個手臂及自動雙面清洗設(shè)備
第三、核心技術(shù)參數(shù):
拋光頭 | 兼容4寸,,6寸,,8寸,12寸 |
拋光頭擺動范圍 | ±15mm |
拋光頭轉(zhuǎn)速 | 0-200rpm |
拋光頭加壓方式 | 氣囊柔性加壓背壓功能(-區(qū)加壓) |
拋光頭壓力范圍 | 0.14-14 psi |
拋光盤尺寸 | 20英寸 |
拋光盤轉(zhuǎn)速 | 0-200 rpm |
蠕動泵 | 2個 |
拋光液流速 | 20-500 cc/min |
拋光墊修整器分區(qū) | 13區(qū) |
拋光墊修整器在線掃描速度 | 10sweeps/min |
拋光墊修整器下壓力 | 3-20lbs |
拋光墊修整器轉(zhuǎn)速 | 0-150rpm |
CMP后片內(nèi)非均勻性WIWNU 1sigma,,去邊5mm | < 5% |
CMP后片間非均勻性WTWNU 1sigma,,去邊5mm | < 3% |
儀器尺寸 | 1000×2030×2100(W× L× H, mm) |
冷卻系統(tǒng) | 包含 |
四,,應(yīng)用實(shí)例:
?CMP工藝 Si CMP,, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS,, ThOx),, 金屬 CMP(W, Cu),, 介質(zhì)膜,,STI等
?工藝開發(fā)可協(xié)助客戶進(jìn)行各類材料/薄膜等的CMP工藝技術(shù)開發(fā)
暫無數(shù)據(jù)!