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美國SVT脈沖激光沉積設備/PLD
美國SVT脈沖激光沉積設備/PLD

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SVTSMARTScientific Materials and Applied Research Tool)脈沖激光沉積系統(tǒng)具有****的優(yōu)越性。它可以把激光燒蝕技術和我們所擁有的其他沉積技術(如RF源)集成于一臺設備上,??梢陨L各種可能的材料。

配有6個旋轉(zhuǎn)靶臺,,實現(xiàn)多層薄膜結構生長,。

可與準分子激光和Yag激光相連。

在線監(jiān)控儀器做為可選件,,為客戶提供高質(zhì)量的工藝信息反饋,。

裝載室不但可以裝取樣品,還可以與其他生長設備或分析設備相連,。

應用

多元素復合氧化物

高溫超導材料

磁性材料,、金屬材料

低蒸汽壓材料

MEMS

基本系統(tǒng)

腔室及真空泵

12’’ 快速門,250l/s 分子泵,,全量程規(guī)

沉積源

靶臺,,6X1’’(25mm) 靶,可以水平旋轉(zhuǎn),,

Z方向移動

樣品臺

1’’(25mm)大小,,可加熱至800oC1000oC可選),可水平旋轉(zhuǎn),,可Z方向移動

在線工藝監(jiān)控

石英晶振沉積速率監(jiān)控儀

自動化

自動化裝置:

控制樣品溫度和旋轉(zhuǎn)

靶臺的位置控制

靶臺旋轉(zhuǎn)

氣體控制

速率及厚度計算(利用QCM輸出)

激光束掃描(可選)

激光束屏蔽控制

自動泵抽和充氣

差分泵抽結構

RHEED分析(可選)

裝載室壓強監(jiān)控(可選)

主要特點

RF射頻等離子源(氧,,氮)

升級高真空

增加進樣室

升級為Laser-MBE (L-MBE)系統(tǒng)

自動軟件控制

提供更潔凈的薄膜生長環(huán)境,**的溫度控制解決方案.

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