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概要:
? LPCVD設(shè)備是半導(dǎo)體集成電路制造的重要設(shè)備之一,, 主要用于多晶硅、氮化硅,、氧化硅薄膜的生長,它是將原材料氣體(或者液態(tài)源氣化)用熱能激活發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而在基片表面生成固體薄膜,,LPCVD過程是在低壓下進(jìn)行的,由于氣壓低,,氣體分子平均自由程大,,使生長的薄膜均勻性好,,此外基片可以豎放使得設(shè)備裝片量大,,特別適用于工業(yè)化生產(chǎn)
暫無數(shù)據(jù)!
產(chǎn)品質(zhì)量
售后服務(wù)
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紅外氣體傳感器 Gasboard-2060
XRD系列晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
紅外快速退火爐系統(tǒng)
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