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儀器簡(jiǎn)介：

納米壓印的技術(shù)與工藝特點(diǎn)，**性地設(shè)計(jì)和制備工作于低真空環(huán)境下,，結(jié)合正負(fù)壓可控調(diào)節(jié)并利用壓縮空氣作為壓印驅(qū)動(dòng)力的,，通過壓力傳導(dǎo)裝置、緩沖與勻壓,、壓力調(diào)節(jié)控制裝置等手段實(shí)現(xiàn)平穩(wěn)可靠可控的壓印過程,，借助于多種靈活的自動(dòng)調(diào)節(jié)裝置的巧妙設(shè)計(jì)與運(yùn)用，實(shí)現(xiàn)壓印中的自動(dòng)找平調(diào)控,，以保證模板納米圖案均勻精確的大面積復(fù)制轉(zhuǎn)移,。

技術(shù)參數(shù)：

YPL-NIL-SI400納米壓印系統(tǒng)：

溫度范圍從室溫到350攝氏度；

壓力范圍從0到20個(gè)PSI（在4英寸晶元上）,；

紫外曝光系統(tǒng),；

真空范圍從1個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓到0.1帕；

水冷系統(tǒng),；

樣品尺寸直徑**4英寸,；

PLC遠(yuǎn)程控制，帶觸摸屏,；

手動(dòng)裝載樣品和模板,；

自帶機(jī)器控制軟件；

在軟件控制下可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)增加和釋放壓力,；

可定制更大樣品尺寸或更大壓力系統(tǒng)的納米壓印機(jī),。

YPL-NIL-SI400 NANOIMPRINT SYSTEM

*Thermal Imprinter

Temperature range of R.T. to 350℃

Pressure range of 0 to 20 atm

*UV exposure system

*Vacuum range of 1atm to 10-1 Pa

* Sealed Bellows

*Wafer/Mask Holders: maximum 4 inch dia. Samples: Smart Sample Holder for

irregular shaped samples and piece parts.

*Control electronics

*PLC control and Touch Screen

*Manual loading and unloading of wafers and masks

*Proprietary Machine Control Software

Including (A) SI400 nanoimprint system (B) training， Warranty,， other,， and (C) Options

主要特點(diǎn)：

該納米壓印機(jī)利用紫外曝光或者熱壓固化實(shí)現(xiàn)壓印圖案在壓印高分子膠層中的復(fù)制，并通過各項(xiàng)功能與過程參量的優(yōu)化與篩選,，通過遠(yuǎn)程PLC控制系統(tǒng)結(jié)合觸摸屏單元,，實(shí)現(xiàn)納米壓印全過程的實(shí)時(shí)監(jiān)控與全自動(dòng)化控制。