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產(chǎn)地
湖北樣本
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一,、概述
ME-L 是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀,,凝聚了頤光科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入,其采用行業(yè)***前沿的創(chuàng)新技術(shù),,具備 1 全穆勒矩陣測(cè)量技術(shù),,2 雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制技術(shù),3 超級(jí)消色差補(bǔ)償器設(shè)計(jì)技術(shù),,4 納米光柵表征測(cè)量技術(shù) 等技術(shù),。可應(yīng)用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚,、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析,,代表當(dāng)今橢偏行業(yè)先進(jìn)技術(shù)水平。
■ 雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器(DRC)配置一次測(cè)量全部穆勒矩陣16個(gè)元素,;
■ 配置自動(dòng)變角器,、五維樣件控制平臺(tái)等優(yōu)質(zhì)硬件模塊;
■ 軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計(jì),,易上手,、操作便捷,;
■ 豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫,保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力
二,、產(chǎn)品特點(diǎn)
■ 采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源,,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm);
■ 可實(shí)現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理,,測(cè)量信息量更大,,測(cè)量速度快、數(shù)據(jù)更加精準(zhǔn),;
■ 基于雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器配置,可一次測(cè)量獲得全穆勒矩陣的16個(gè)元素,,相對(duì)傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面測(cè)量信息,;
■ 頤光**技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi),提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜,;
■ 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫,、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料,;
■ 集成對(duì)納米光柵的分析,,可同時(shí)測(cè)量分析納米結(jié)構(gòu)周期、線寬,、線高,、側(cè)壁角、粗糙度等幾何形貌信息,;
三,、技術(shù)規(guī)格
四、產(chǎn)品應(yīng)用
■ 半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu):介電薄膜,、金屬薄膜,、高分子、光刻膠,、硅,、PZT膜,激光二極管GaN和AlGaN,、透明的電子器件等,;
■ 半導(dǎo)體周期性納米結(jié)構(gòu):納米光柵,套刻誤差,,T型相變存儲(chǔ)器等,;
■ 新材料,新物理現(xiàn)象研究:材料光學(xué)各向異性,,電光效應(yīng),、彈光效應(yīng),、聲光效應(yīng)、磁光效應(yīng),、旋光效應(yīng),、Kerr效應(yīng)、Farady效應(yīng)等,;
■ 平板顯示:TFT,、OLED、等離子顯示板,、柔性顯示板等,;
■ 光伏太陽能:光伏材料(如Si3N4、Sb2Se3,、Sb2S3,、CdS等)反射率,消光系數(shù)測(cè)量,,膜層厚度及表面粗糙度測(cè)量等,;
■ 功能性涂料:增透型、自清潔型,、電致變色型,、鏡面性光學(xué)涂層,以及高分子,、油類,、Al2O3表面鍍層和處理等;
■ 生物和化學(xué)工程:有機(jī)薄膜,、LB膜,、SAM膜、蛋白子分子層,、薄膜吸附,、表面改性處理等;
■ 塊狀材料分析:固體(金屬,、半導(dǎo)體,、介質(zhì)等)或液體(純凈物或混合物)的折射率n和消光系數(shù)k表征,玻璃新品研發(fā)和質(zhì)量控制等,。
暫無數(shù)據(jù),!