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一,、概述
SE-VM 是一款超高精度快速測量光譜橢偏儀,,其采用行業(yè)**的橢偏創(chuàng)新技術(shù),具備 1 雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制技術(shù),,2透明基底消背反技術(shù)等**技術(shù),。快速實現(xiàn)光學(xué)參數(shù)薄膜和納米結(jié)構(gòu)的表征分析,適用于薄膜材料的快速測量表征,。支持多角度,,微光斑,,可視化調(diào)平系統(tǒng)等高兼容性靈活配置,多功能模塊定制化設(shè)計,。
■ 高精度橢偏測量解決方案,;
■ 超高精度、快速無損測量,;
■ 支持多角度,、微光斑、可視化調(diào)平系統(tǒng)功能模塊靈活定制,;
■ 豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫,,保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力。
二,、產(chǎn)品特點
■ 采用高性能進(jìn)口復(fù)合光源,,光譜覆蓋可見到近紅外范圍 (380-1000nm),可支持?jǐn)U展紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)
■ 高精度旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制,、PCRSA配置,,實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集;
■ 支持系列配置靈活,,可根據(jù)不同應(yīng)用場景支持多功能模塊化定制,;
■ 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫,,涵蓋了目前絕大部分的光電材料,;
三、產(chǎn)品應(yīng)用
廣泛應(yīng)用于鍍膜工藝控制,、tooling校正等測量應(yīng)用,,實現(xiàn)光學(xué)薄膜、納米結(jié)構(gòu)的光學(xué)常數(shù)和幾何特征尺寸快速的表征分析,。
四,、參數(shù)規(guī)格
暫無數(shù)據(jù)!