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一,、概述

SE-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀，采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù),，配置全自動Mapping測量模塊，通過橢偏參數(shù),、 透射/反射率等參數(shù)的測量,，快速實現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學參數(shù)自定義繪制化測量表征分析。

■ 全基片橢偏繪制化測量解決方案,；

■ 支持產(chǎn)品設(shè)計以及功能模塊定制化,，一鍵繪制測量；

■ 配置Mapping模塊,，全基片自定義多點定位測量能力,；

■ 豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫，保證強大數(shù)據(jù)分析能力

二,、產(chǎn)品特點

■ 采用氘燈和鹵素燈復合光源,，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm),；

■ 高精度旋轉(zhuǎn)補償器調(diào)制、PCRSA配置,，實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集,；

■ 具備全基片自定義多點自動定位測量能力，提供全面膜厚檢測分析報告,；

■ 數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫,、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料,；

三,、參數(shù)規(guī)格

四、產(chǎn)品應用

廣泛應用OLED,，LED,，光伏，集成電路等工業(yè)應用中,，實現(xiàn)大尺寸全基片膜厚,、光學常數(shù)以及膜厚分布快速測量與表征。