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光阻去除設(shè)備 NA-8000
光阻去除設(shè)備 NA-8000

參考價格

面議

型號

光阻去除設(shè)備 NA-8000

品牌

萬德思諾

產(chǎn)地

天津

樣本

暫無
天津市萬德思諾國際貿(mào)易有限公司

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產(chǎn)品圖片:

產(chǎn)品型號:

NA-8000

產(chǎn)品特點介紹:


    • 1. All in One system
      - All units sucha as M/W plasma and power supply, Controll unit, and pumping units are included in system

  •  

    • 2. Applicable for 4” – 6” SiC wafer
      - Batch process using 330mm SiC tray

  •  

    • 3. Good process optimization for both CC and PR
      - M/W with high temperature stage and O2/N2 gas used

  •  

    • 4. Possible to use other applications
      - Organic film etching, Residue removal, Polyimide etching, etc


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